产品介绍：
日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需zui大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。
新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
0.4nm / 30kV（SE）
1.2nm / 1kV（SE）
0.34nm / 30kV（STEM）
用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现gao效率截面观察。
采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，gao效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。
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已咨询2287次台式扫描电镜
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已咨询497次扫描电镜(SEM )
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已咨询2450次场发射
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已咨询1136次扫描电子显微镜
报价：面议
已咨询1992次扫描电镜（SEM）
报价：$480000
已咨询3027次
报价：面议
已咨询920次场发射扫描电镜SEM4000
报价：￥7000000
已咨询48次SEM 扫描电子显微镜
日立紧凑型毛细管电泳DNA测序仪DS3000结构紧凑，同时秉承于日立优异的毛细管及激光检测技术，可轻松完成测序与片段解析。
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够Z大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置： 断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。
离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和先进材料等各个领域的研发和质量控制等。
日立高新技术科学公司于2019年3月起，在中国开始销售利用光干涉原理进行非接触式无损伤三维表面形态测量的纳米尺度3D光学干涉测量系统“VS1800”，该产品搭配有支持多目的表面测量国际标准“ISO 25178*1参数对比工具”，通过简单而准确的样品测量支持客户的分析业务，与此同时，凭借不断创新积累的三维测量性能，实现高精度、高分辨率的表面性状的测量。
标准配备改良过的测量参数自动调整功能，以及简单明了的图形用户界面。因此，即使是刚刚接触SPM的人，或者测量某种全新的样品时，也能取得具有较高再现性的数据。
AFM5100N除了激光检测方式之外，全新的「自检测悬臂」，在保证高分辨表面形貌观察的同时，大大简化了AFM悬臂操作。
AFM5300E是一款环境型原子力显微镜，它的环境控制单元可以使样品在大气中、真空中、溶液中等环境中进行测量。AFM5300E还具有高低温控制功能，可以检测温度对样品表面形貌和物理特性的影响。
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