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电子束光刻胶
- 品牌:美国E-BEAM
- 型号:
- 产地:美国
- 供应商报价: 面议
- 深圳市科时达电子科技有限公司 更新时间:2024-04-26 06:25:51
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企业性质一般经销商
入驻年限第3年
营业执照已审核
- 同类产品光刻胶(29件)
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- 详细介绍
- 细 电子束光刻胶
类型
光刻胶型号
适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺 电子束光刻胶
HSQXR-1541-006
EB 85nm~180nm
6nm
JJ分辨率负胶,抗刻蚀
Z520
0.05-1
10-50nm
高分辨率电子束正胶,抗刻蚀
PMMA
电子束正胶
EBL 6000系列
0.1-0.5
50nm
负性电子束光刻胶
ma-N2400系列
0.1-1.5
30nm
负性电子束光刻胶
纳米压印胶
mr-NIL 6000E
热固化和UV固化
0.1-1
50nm
可用于纳米图形的制造、刻蚀、多层系统等
mr-I 9000M
热固化
0.1-1
50nm
mr-UVCur21
UV固化
0.1-5
50nm
光固化胶
Ormo系列
g/h/i-Line
0.1-300
50nm
适用于制造光栅、微型镜片、光耦合器和连接器等
电子束光刻胶 (e-beam resist)
类型
型号
特性
正胶
SX AR-P 6200
NEW!
超高分辨率电子束正胶,通过简单的工艺即可得到10nm甚至更小的结构。超高深宽比(20:1)、超高对比度(>15)。良好的耐干法刻蚀性能,是传统PMMA胶的2倍。
完全可以取代ZEP胶,经济实惠,并且采购简单,包装规格多样化。
AR-P617
PMMA/MA共聚物
适合目前各种应用需要的电子束光刻胶。灵敏度高,是普通PMMA胶的3~ 4倍,对比度亦高于PMMA。 PMMA/MA共聚物也可以和PMMA通过双层工艺实现lift-off工艺。
PMMA
PMMA(polymethyl methacrylate)是电子束曝光工艺中最常用的正性光刻胶,是由单体甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)经聚合反应而成。
PMMA胶最主要的特点是高分辨率、高对比度、低灵敏度。
PMMA胶种类齐全,不同的系列中包含了各种分子量(50K, 200K, 600K, 950K),各种溶剂(氯苯,乳酸乙酯,苯甲醚)以及各种固含量的PMMA胶,以满足各类电子束光刻的工艺要求。
PMMA胶可用于单层或双层电子束曝光、转移碳纳米管或石墨烯、绝缘层等多种工艺。
(注:工厂可根据用户的需求,定制所需分子量、固含量的PMMA胶。)
AR-P 6510
AR-P 6510是在PMMA的基础上开发的厚胶。 另外,厂商可以根据客户的具体需求来生产其他分子量的LIGA工艺用胶。主要用于LIGA工艺和X-Ray 曝光工艺。此类光刻胶型号齐全,厚度从10~250μm不等,图形剖面陡直。
负胶
AR-N 7520
AR-N 7500
电子束负胶,高分辨率(30nm),对比度高(> 5),良好的耐等离子刻蚀性能,可以用于混合曝光。灵敏度中等,介于AR-N 7700和PMMA之间。
AR-N 7700
电子束负胶,化学放大胶,高灵敏度,高对比度,良好的耐等离子刻蚀刻蚀性能,可以用于混合曝光。
AR-N 7720
电子束负胶,用于三维曝光工艺。 化学放大胶,高灵敏度,对比度非常小(<1),非常适合制作三维结构;也可以用于衍射光学及全息器件的加工。
X AR-N 7700/30
SX AR-N 7700/37
化学放大负胶,高分辨率,良好的耐等离子刻蚀能力,适合混合曝光。高灵敏度,灵敏度比AR-N 7700更高。
配套试剂(Process chemicals)
类型
型号
特性
显影液
AR 300-26, -35
紫外光刻胶用 显影液
AR 300-44,-46,-47, -475
紫外/电子束光刻胶用 显影液
AR 600-50,-51,-55,-56
PMMA胶用 显影液
定影液
AR 600-60,-61
电子束光刻胶用 定影液
除胶剂
AR 300-70, -72, -73,600-70
紫外/电子束光刻胶用 除胶剂
稀释剂
AR 600-01…09
PMMA胶 稀释剂
AR 300-12
紫外/电子束光刻胶用 稀释剂
增附剂
AR 300-80, HMDS
紫外/电子束光刻胶用 增附剂
- 产品优势
- E-Beam 电子束光刻胶 :HSQXR-1541-006, Z520, PMMA, 。EBL6000系列,Ma-N2400系列。纳米压印胶:mr-NIL 6000E, mr-L 900M, mr-UVCur21。光固化胶:Ormo 系列。