Park NX-Hybrid WLI 将白光干涉测量引入AFM技术 用于半导体计量
Park NX-3DM工业原子力显微镜
Park NX-Wafer 业界引领的用于产线计量方案的自动化AFM
专为大型纳米平板显示器测量而设计的自动化原子力显微镜（AFM）系统
Accurion Nano 系列 主动隔振台
全自动工业AFM-WLI系统
在半导体行业，设备封装在决定现代设备的性能、尺寸和可靠性方面起着关键作用。随着制造商努力满足更小、更强大半导体的需求，他们面临着复杂的组件集成、有效的热管理、材料兼容性以及在更高频率下保持电气完整性等挑战。Park 原子力显微镜解决方案直接应对这些挑战。凭借其先进的精度和分析纳米结构的能力，Park AFM工具使制造商能够应对先进设备封装的复杂性。
Park NX-Hybrid WLI是一款内置WLI轮廓仪的创新型AFM，用于半导体及相关制造质量保证、半导体前端、后端到高级封装的工艺控制和研发计量。它适用于需要大面积高通量测量的用户，能够以亚纳米分辨率和高精度放大至纳米级区域。
将AFM和白光干涉（WLI）技术集成到一个无缝系统中
Park NX-Hybrid WLI是首 个内置WLI轮廓仪的AFM，用于半导体及相关制造质量保证、半导体前端、后端到先进封装的工艺控制和研发计量。它适用于需要大面积高通量测量的用户，能够以亚纳米分辨率和超高精度放大至纳米级区域。
WLI的原理
LED或卤素灯等白光作为光源，通过各种透镜照射到样品上。当样品用该光束扫描时，由于扫描期间的光干涉，会产生光强度变化。利用这一原理，WLI计算每个点的表面高度，生成表面地形图。
两种最 佳互补技术
白光干涉（WLI）和原子力显微镜（AFM）是用于半导体计量的两种最 佳互补技术，WLI提供快速、广域光学成像以实现高通量测量，而AFM则提供最 高 的纳米级分辨率，即使对于透明材料也是如此。
电动滤光片更换器
Park NX-Hybrid WLI支持WLI和PSI模式，具有用于PSI模式的电动滤光片更换器和自动化电动线性透镜更换器，可在两个物镜之间快速切换。可用放大倍率包括2.5倍、10倍、20倍、50倍和100倍，可根据不同的测量需求自动更换透镜。
应用：热点检测和审查
Park NX-Hybrid WLI快速调查热点，并通过比较参考样品区域和目标样品区域之间的图像自动审查热点缺陷，实现高速“热点检测”。这有助于快速定位缺陷位置，以进行详细的高分辨率AFM审查。
报价：面议
已咨询971次激光干涉仪
报价：面议
已咨询947次激光干涉仪
报价：￥2600000
已咨询87次三维白光干涉仪
报价：面议
已咨询1182次激光干涉仪
报价：面议
已咨询255次
报价：面议
已咨询238次
报价：面议
已咨询1248次晶圆厂AFM
报价：面议
已咨询1157次小样品原子力显微镜
Park NX-Hybrid WLI是一种集成的、首创的AFM，内置白光干涉仪，满足从前端到先进封装和研发计量的各种半导体制造需求。它非常适合高通量、大面积测量，能够以亚纳米分辨率和卓越精度放大至纳米级区域。
对于媒介和基体领域的工程师而言，识别纳米级缺陷是一个非常耗时的工作。Park NX-HDM原子力显微镜系统可借助数量级实现自动缺陷识别、扫描和分析，从而加快缺陷的检查过程。Park NX-HDM可与众多的光学检查工具直接进行连接，这就意味着自动缺点检查通量会大幅提高。此外，Park NX-HDM拥有精准的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着业内较低的本底噪声和True Non-Contac技术，Park NX-HDM是目前市面上表面粗糙度测量较为精准的原子力显微镜。
AFM集成的纳米红外光谱技术助力先进材料表征
Park FX200是Park Systems在原子力显微镜（AFM）领域推出的一款创新机型，可适配最大200mm的样品。
Park FX300 旨在打破科研与工业应用之间的界限，成为原子力显微镜领域具有划时代意义的产品。该系统支持多种 AFM 技术， 满足科研实验、质量检测与可靠验证多场景应用需求。此外，Park FX300 提供工业专用的研发功能，如大面积表面粗糙度轮廓分析、精确的晶圆级对准和定向控制、增强光学成像，以及确保超洁净测量环境的污染管理。这些功能使 Park FX300 成为半导体后端工艺、晶圆级封装及其他工业研发的核心解决方案。
Park NX12是一体化的纳米级显微镜解决方案。它提供高分辨率成像和多种属性测量功能。它在电化学研究方面表现理想，服务于广泛研究学科的多用户设施。该适应性平台涵盖从纳米机械映射、扫描离子导电显微镜到倒置光学显微镜等一系列应用。其灵活性通过可选的硬件和软件附加组件得到进一步增强，使其成为分析研究人员和多用户设施用户的理想选择。
营业执照已审核
分享
收藏
沪公网安备 31011502008050号