Park FX300 300 mm晶圆兼容型原子力显微镜,满足科研实验、质量检测与可靠验证多场景应用需求
Park NX20 Lite用于晶圆测量和分析的高性价比 AFM 系统
Park NX15 功能强大的原子力显微镜提高您的生产力
Park NX20 失效分析的理想选择
Park NX20 失效分析的理想选择
满足工业检测与科研分析复合需求
面向科研与质量检测的300 mm晶圆专用原子力显微镜
能够测量大至 300 mm 的晶圆,适用于多种高级原子力显微镜应用,包括选配的AFM-IR 应用。

更低的噪音和更小的热漂移
增强的机械结构降低了操作噪音、热漂移,并实现了更集中的SLD光束,突破了以往的限制。这显著提高了测量精度和高分辨率成像能力。


小激光光斑尺寸
• 通过物镜聚焦SLD光束,激光光斑尺寸小
• 11µm的SLD光束直径使快速成像悬臂更具适用性


更快的Z伺服性能
• 由强 力压电叠层驱动,并由柔性结构引导
• 新的FX AFM电子控制器提供更快的Z伺服性能和更高的精度


专业的工业研发应用
配备配方化常规测量、长程轮廓扫描与可旋转样品台的工业研发功能。


集成工业级设施
工业级一体化设计,配备设施控制器、带有紧急制动装置的信号指示塔,以及选配的风机过滤单元(FFU)污染控制解决方案。

报价:面议
已咨询289次原子力显微镜
报价:¥74620
已咨询43次盐雾试验机
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已咨询289次原子力显微镜
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已咨询5039次原子力显微镜
报价:面议
已咨询375次阵列式压力传感系统
Vario 系统是基于元件的模块化隔振系统,由至少两个隔离元件和一个外部控制单元组成。 该产品系列专为隔离中型到大型仪器和客户特定应用而设计。 主要型号 Vario Basic 特别适合隔离高静态负载。 这些元件始终成对使用,因此您可以配置两个、四个、六个或更多隔离元件。 我们的产品组合包括三种标准长度,以匹配各种设置的尺寸。
SIMON是专门为日常测量任务而特别设计的。其简单的用户界面和强大的定角椭偏法能够使您轻松进入到椭偏成像领域。它可以在两种不同的模式下运行。其中,显微镜模式非常快,并且允许在最薄层(例如单层:d=0.35nm)中观察变化和缺陷,而椭偏模式则能够测量样品材料的厚度和折射率。 成像椭偏法本身将厚度和折射率测量的灵敏度与显微镜成像相结合。这允许利用例如微结构样品上的微观图像来确定厚度和折射率变化。 典型的应用包括在品控中对大样品的均匀性和缺陷进行表面检查,或对二维材料薄片进行快速定位。
为满足大尺寸平板显示器对原子力计量学日益增长的需求,Park NX-TSH尖端扫描头能够巧妙地处理超过300毫米样品的纳米计量学。其尖端扫描头和龙门式空气轴承阶段能够实现精确的粗糙度、台阶高度和关键尺寸测量。作为一种高精度和非破坏性的方法,使用Park NX-TSH进行的原子力显微镜可以为OLED、LCD、光掩模等提供可靠的高分辨率AFM图像。
Park NX-Hybrid WLI是一种集成的、首创的AFM,内置白光干涉仪,满足从前端到先进封装和研发计量的各种半导体制造需求。它非常适合高通量、大面积测量,能够以亚纳米分辨率和卓越精度放大至纳米级区域。
对于媒介和基体领域的工程师而言,识别纳米级缺陷是一个非常耗时的工作。Park NX-HDM原子力显微镜系统可借助数量级实现自动缺陷识别、扫描和分析,从而加快缺陷的检查过程。Park NX-HDM可与众多的光学检查工具直接进行连接,这就意味着自动缺点检查通量会大幅提高。此外,Park NX-HDM拥有精准的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着业内较低的本底噪声和True Non-Contac技术,Park NX-HDM是目前市面上表面粗糙度测量较为精准的原子力显微镜。
AFM集成的纳米红外光谱技术助力先进材料表征
Park FX200是Park Systems在原子力显微镜(AFM)领域推出的一款创新机型,可适配最大200mm的样品。
Park FX300 旨在打破科研与工业应用之间的界限,成为原子力显微镜领域具有划时代意义的产品。该系统支持多种 AFM 技术, 满足科研实验、质量检测与可靠验证多场景应用需求。此外,Park FX300 提供工业专用的研发功能,如大面积表面粗糙度轮廓分析、精确的晶圆级对准和定向控制、增强光学成像,以及确保超洁净测量环境的污染管理。这些功能使 Park FX300 成为半导体后端工艺、晶圆级封装及其他工业研发的核心解决方案。