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膜厚测量仪FE-300
- 品牌:日本大塚
- 型号: FE-300
- 产地:日本
- 供应商报价: 面议
- 北京先锋泰坦科技有限公司 更新时间:2024-03-27 16:48:25
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企业性质生产商
入驻年限第3年
营业执照已审核
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联系方式:市场部13810146393
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- 详细介绍
- 膜厚量测仪FE-300的特点
- 测试范围涵盖薄膜到厚膜
- 基于JD反射率光谱分析膜厚
- 小型・低价,精度高
- 无复杂设定,操作简单,短时间内即可上手
- 外观新颖,操作性提高
- 非线性*小二乘法,实现光学常数解析(n:折射率、k:消光系数)
对应膜种○ 多层膜 ○ 折射率倾斜○ 非干涉膜 ○ 超晶格结构用途○ 光学薄膜(ARfilm、ITO等)○ FPD相关(ITO、PI、PC、CF等)测量项目多层膜厚解析JD反射率测量光学常数解析(n:折射率k:消光系数)测量实例式样型号 FE-300V FE-300UV FE-300NIR *1 本体 标准型 薄膜型 厚膜型 厚膜型(高分辨率) 样品尺寸 *大 8 寸晶圆( 厚度 5 mm ) 测量膜厚范围(nd值) 100 nm ~ 40 μm 10 nm ~ 20 μm 3 μm ~ 300 μm 15 μm ~ 1.5 mm 测量波长范围 450 nm ~ 780 nm 300 nm ~ 800 nm 900 nm ~ 1600 nm 1470 nm ~ 1600 nm 测量精度 ± 0.2 nm 以内 *2 ± 0.2 nm 以内 *2 - - 重复精度 0.1 nm 以内 *3 0.1 nm 以内 *3 - - 测量时间 0.1 s ~ 10 s 以内 光斑直径 约 φ 3 mm 光源 卤素灯 氙灯与卤素灯 卤素灯 卤素灯 通讯接口 USB 尺寸,重量 280(W) × 570(D) × 350(H) mm、 约 24 kg 软件功能 标准 波峰波谷解析、FFT解析、*适化法解析、*小二乗法解析 选配功能 材料评价软件、薄膜模型解析软件、标准片解析 *2 相对于VLSI 公司产膜厚标准(100nm SiO2/Si)的膜厚保证书记载的测量保证值范围*3 VLSI 公司产膜厚标准(100nm SiO2/Si)的同一点反复测量时的扩张不确定度(包括因子2.1) - 产品优势
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- 技术资料
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