-
Nikon NSR-I12 I线步进式光刻机
品牌:尼康
型号:Nikon NSR-I12
-
OAI 2012SM 自动化边缘曝光系统
品牌:美国OAI
型号:OAI 2012SM
-
无掩膜光刻机 激光直写系统
品牌:韩国MIDAS
型号:MLW-100
-
荷兰4PICO 激光直写光刻机 PicoMaster200
品牌:荷兰4PICO
型号:4PICOPicoMaster200
-
美国恩科优N&Q系列光刻机8006
品牌:美国恩科优
型号:N&Q8006
- 产品品牌
- 不限
-
更多品牌
- >
-
美OAI光刻机Model 200, 800MBA, 5000, 2000
- 品牌:美国OAI
- 型号: Model 200, 800MBA, 5000, 2000
- 产地:美国
美国 OAI 光刻机:Model 200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model 2000 全自动边缘曝光系统,生产型Model 5000 全自动曝光机,生产型OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器,采用经过行业验证的组件,使OAI成为光刻设备行业的领 导者。 200型是台式面罩对准器,需要最小的洁净室空间。它为研发,或有限规模,试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴
-
小型台式无掩膜光刻系统
- 品牌:英国Durham Magneto Optic
- 型号: Microwriter ML3
- 产地:英国
Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。
-
紫外曝光机/光刻机
- 品牌:德国SUSS MicroTec
- 型号: MJB4
- 产地:德国
Perfect Low-Cost Solution: • High Accuracy • Good Optical performance• latest processes (e.g. UV-NIL) Addressed Markets: • MEMS • Telecommunica
-
尼康光刻机 NSR-i12, NSR-1755G7,NSR-1755i7B,步进式投影光刻机
- 品牌:尼康
- 型号: NSR-i12, NSR-1755G7,NSR-
- 产地:日本
尼康光刻机 NSR-i12, NSR-1755G7,NSR-1755i7B,步进式投影光刻机,NSR 204,NSR 204B, NSR 1505 G6E.
-
德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150
- 品牌:德国海德堡
- 型号: MLA150
- 产地:德国
德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150,德国高精密激光直写绘图机,非接触式曝光,可支持高 效数位光刻与灰度光刻.
-
μMLA桌面无掩模光刻机
- 品牌:德国海德堡
- 型号: μMLA桌面无掩模光刻机
- 产地:德国
μMLA桌面无掩模光刻机 桌面型光刻机μMLA 技术参数直写模式 I*直写模式 II*写入性能(光栅扫描和矢量曝光模式)最小结构尺寸 [μm]0.61最小线宽/线隙 [半宽, μm]0.81.5第二层对准大于 5 x 5 mm2 [3σ, nm]500500第二层对准大于 50 x 50 mm2&n
-
Nikon NSR-I12 I线步进式光刻机
- 品牌:尼康
- 型号: Nikon NSR-I12
- 产地:日本
I线步进式光刻机 / I-line stepper,型号:Nikon NSR-I12技术指标及功能广泛应用于生产线,是6英寸,8英寸等主力I线生产机台,适用于I线光刻胶的曝光,操作简单,曝光精度准,解析力zui高可达0.35UM (350NM)
-
Nikon NSR 1755i7B 6英寸分步重复光刻机
- 品牌:尼康
- 型号: NSR 1755i7B
- 产地:日本
把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上,分区域进行步进式曝光。本机台可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圆高精度投影曝光,曝光精度可达500nm。基本指标1. RESOLUTION:0.5μm2. LENS DISTORTION:≤0.9μm3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY:≤0.02μm4. STEPPING ACCURACY:≤0.08μm 5. OVERLAY ACCURACY:≤0.15μm(X,Y)
-
瑞典MYCRONIC光刻机
- 品牌:瑞典Mycronic
- 型号: Prexision-800
- 产地:瑞典
提高分辨率 25%; 更佳的贴片性能 70%; 更快的写入速度20% 。
-
德国海德堡掩膜版光刻机VPG+ 800/1100/1400
- 品牌:德国海德堡
- 型号: VPG+ 800/1100/1400
- 产地:德国
大尺寸掩膜版生产工具 平行化曝光制程技术
-
海德堡掩膜版光刻机 VPG+ 200/400
- 品牌:德国海德堡
- 型号: VPG+ 200/400
- 产地:德国
多种数据输入格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL) 网络数据传输 计量校准系统 人工气候室 阶段地图校正 边缘检测器单元 色差校正
-
小型台式无掩膜光刻系统
- 品牌:英国Durham Magneto Optic
- 型号: Microwriter ML3
- 产地:英国
Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。
-
Nanoscribe无掩膜光刻机Quantum X shape
- 品牌:nanoscribe
- 型号: Quantum X shape
- 产地:德国
Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统是一款真正意义上的全能机型。基于双光子聚合技术,该系统不仅是快速成型制作的最佳机型,同时适用于基于晶圆上的任何亚微米精度的2.5D及3D形状的规模化生产。全新Quantum X shape可以为您打印任何 2.5D 和 3D 微纳结构,提供真正意义上的设计自由度。该系统可实现您各类高纵横比结构。
-
德国海德堡 μMLA桌面无掩模光刻机
- 品牌:德国海德堡
- 型号: μMLA
- 产地:德国
德国海德堡 μMLA桌面无掩模光刻机
-
海德堡Heidelberg 掩膜版光刻机VPG+ 200,VPG+400
- 品牌:德国海德堡
- 型号: VPG+ 200,VPG+400
- 产地:德国
海德堡Heidelberg 掩膜版光刻机VPG+ 200,VPG+400 大尺寸掩膜版生产工具 平行化曝光制程技术 大型光学系统上的创新与突破
-
瑞典Mycronic FPS 6100多功能掩膜版光刻机
- 品牌:瑞典Mycronic
- 型号: FPS 6100
- 产地:瑞典
瑞典Mycronic FPS 6100多功能掩膜版光刻机,使多功能光掩模制造,具有无与伦比的灵活性。
-
美国OAI光刻机及光功率计
- 品牌:美国OAI
- 型号: Model 200/Model 800MBA
- 产地:美国
美国 OAI 光刻机:Model 200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model 2000 全自动边缘曝光系统,生产型Model 5000 全自动曝光机,生产型OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器,采用经过行业验证的组件,使OAI成为光刻设备行业的领 导者。 200型是台式面罩对准器,需要最小的洁净室空间。它为研发,或有限规模,试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴
-
美OAI光刻机Model 200, 800MBA, 5000, 2000
- 品牌:美国OAI
- 型号: Model 200, 800MBA, 5000, 2000
- 产地:美国
美国 OAI 光刻机:Model 200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model 2000 全自动边缘曝光系统,生产型Model 5000 全自动曝光机,生产型OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器,采用经过行业验证的组件,使OAI成为光刻设备行业的领 导者。 200型是台式面罩对准器,需要最小的洁净室空间。它为研发,或有限规模,试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴
-
德国Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系统
- 品牌:瑞士Eulitha
- 型号: PhableR 100
- 产地:德国
PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统,但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似,涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术,在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅(六角形和正方形),且曝光结果非常均匀,质量很 好;在"mask aligner"模式下,能非常轻松地获得微米尺寸的图形。
-
德国Heidelberg MLA 150 激光光刻机
- 品牌:德国海德堡
- 型号: MLA 150
- 产地:德国
德国高精密激光直写绘图机 非接触式曝光 可支持GX数位光刻与灰度光刻
-
德国Heidelberg MLA 100 激光光刻机
- 品牌:德国海德堡
- 型号: MLA 100
- 产地:德国
基本灰度曝光模式 对准摄像系统 实时自动对焦 User-optimized接触向导
-
德国Heidelberg Heidelberg DWL 66+ 无掩模直写机
- 品牌:德国海德堡
- 型号: DWL 66+
- 产地:德国
科研用激光直写系统 具有多种直写模块,实现不同精度直写需求 能于结构上进行灰度曝光
-
英国SPTS 蒸发HF刻蚀 SPTS UEtch
- 品牌:英国SPTS
- 型号: SPTS UEtch
- 产地:英国
通过无水乙醇的催化作用,HF气体与SiO2反应生成可挥发的产物SiF4和气态H2O,并通过真空排风抽走。整个反应过程不生成液态水,避免了液体对悬空微纳结构的粘连,从而可以成功释放悬空的微纳米结构。主要用于悬臂梁及其他悬空微纳米结构和SiO2牺牲层的释放刻蚀。
-
MemsStar XeF2刻蚀机
- 品牌:英国memsstar
- 型号: XeF2
- 产地:德国
-
英国Durham小型台式无掩膜光刻机-Microwriter ML3
- 品牌:英国Durham Magneto Optic
- 型号: Microwriter ML3
- 产地:英国
小型台式无掩模光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便GX的微加工方案。
-
德国SUSS 紫外光刻机 MJB4
- 品牌:德国SUSS MicroTec
- 型号: MJB4
- 产地:德国
该设备配备可靠的在亚微米级高度精密的对准以及高分辨光刻系统。具备顶部对准系统和衍射减小光学系统。
-
英国 SPTS深硅刻蚀机/等离子刻蚀机
- 品牌:英国SPTS
- 型号: SPTS-01
- 产地:英国
SPTS能为客户提供一系列的先进的工艺,比如功率MOSFET和200mm和300mm晶圆上的高端封装(3D封装和芯片级封装)。
-
紫外曝光机/光刻机
- 品牌:德国SUSS MicroTec
- 型号: MJB4
- 产地:德国
Perfect Low-Cost Solution: • High Accuracy • Good Optical performance• latest processes (e.g. UV-NIL) Addressed Markets: • MEMS • Telecommunica
-
无掩膜光刻机 激光直写系统
- 品牌:韩国MIDAS
- 型号: MLW-100
- 产地:韩国
紧凑型光学模块:使用备用光学模块减少革命性的机器停机时间
-
KLOE 微流控芯片光刻机/曝光机 UV-KUB系列
- 品牌:北京燕京
- 型号: UV-KUB系列
- 产地:法国
法国KLOE公司在光刻方面有着丰富的经验,其研发的UV- KUB系列光刻机是一种基于UV LED的曝光机系统,结构紧凑,可以直接放置在实验台上,能够处理zuida直径4英寸的晶圆,兼容硬接触(接触式)或者软接触(接近式)工艺,可自动调整掩膜高度以适应不同的基板厚度,可使用365 nm或405 nm的光源,不需要预热,也不需要单独的冷却单元。另外,UV-KUB系列先进的设计,保证了光源的准直性和均匀性,其zui小分辨率可达2μm,zuida发散角小于2° 本系统适用于市面上常用的光刻胶,如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
-
全自动光刻机
- 品牌:韩国MIDAS
- 型号: MDA-12SA
- 产地:韩国
MDA-12SA型曝光机是一款MIDAS公司新开发的产品,代表了下一代全区域光刻系统。这一新型半自动化对准曝光平台具有更高的重复光刻精度以及更可靠的操作,非常适合陶瓷及其他探针卡应用,同时MDA-12SA型半动化光罩对准曝光机具有更高的生产能力和容易操控。
-
半自动光刻机
- 品牌:韩国MIDAS
- 型号: MDA-400M, MDA-60MS
- 产地:韩国
光源强度可控
-
荷兰SCIL全自动纳米压印光刻机
- 品牌:瑞士SCIL
- 型号: AutoSCIL
- 产地:瑞士
荷兰SCIL公司简介 荷兰SCIL公司是知名的纳米压印设备供应商,是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一,其“SCIL基底保形压印”技术,结合了小面积硬压与大面积软压的优势,真正意义上实现了纳米压印技术的工业12寸wafer级量产,已经被国际上很多知名fab厂采用。 “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺,可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的
-
荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机
- 品牌:瑞士SCIL
- 型号: LabSCIL
- 产地:瑞士
荷兰SCIL公司简介 荷兰SCIL公司是知名的纳米压印设备供应商,是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一,“SCIL基底保形压印光刻”技术,结合了小面积硬压与大面积软压的优势,真正意义上实现了12寸晶圆高质量无基底损伤保形的纳米压印,已成功用于12寸量产线,已经被国际上很多知名fab厂采用。 “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺,可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米
-
DaLI无掩膜纳米光刻机
- 品牌:北京艾锐斯
- 型号: DaLI
- 产地:海淀区
采用AOD激光操控技术,光斑定位精度优于1nm,高精度套刻对准,结构边缘超平滑,可轻松构建1微米以下线宽结构。 先进的AOD激光操控技术,使得DaLI具有超高的激光定位精度(优于1nm),超长的有效寿命,以及极高的稳定性。DaLI主要适用于广泛应用于MEMS、材料科学、微流控、微光学器件及其它微纳加工领域。
-
M系列光束笔尖阵列光刻系统
- 品牌:美国Tera print
- 型号: M
- 产地:加拿大
聚合物笔无掩模光刻纳米制造系统(polymer pen lithography)聚合物笔纳米无掩模光刻制造系统PPL, 使用可达160000笔尖的阵列,采用蘸笔光刻DPN的方式,将待沉积的材料(墨水)浸蘸在笔尖阵列上,笔尖可控的与基底表面接触,从而在基底表面批量成型所需图案,加工纳米微米图案无需光掩膜,且在平方厘米范围内达到200纳米以下的分辨率,可应用于纳米粒子合成,蛋白阵列,单细胞排布,纳米电路构造、生物芯片、化学检测、微尺度催化反应、分子马达等领域。此设备在国际上属于基于聚合物笔光刻(PPL)技术的纳米制造系统,PPL技术是美国Tera-print公司独有的技术。
- 激光刻蚀机
- 仪器网导购专场为您提供激光刻蚀机功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选激光刻蚀机的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。