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白光干涉测厚仪

赛默飞世尔科技
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白光干涉测厚仪
白光干涉测厚仪概述

白光干涉测厚仪是用来测量材料及物体厚度的仪表。在工业生产中常用来连续或抽样测量产品的厚度(如钢板、钢带、薄膜、纸张、金属箔片等材料)。这类仪表中有利用α射线、β射线、γ射线穿透特性的放射性厚度计;有利用超声波频率变化的超声波厚度计;有利用涡流原理的电涡流厚度计;还有利用机械接触式测量原理的测厚仪等。其安放位置均在板带轧机的出口或入 口侧。设计、安装测厚仪时要在可能的条件下尽量靠近工作辊,目的是降低板厚的滞后调整时间。白光干涉测厚仪可以用来在线测量轧制后的板带材厚度,并以电讯号的形式输出。该电讯号输给显示器和自动厚度控制系统,以实现对板带厚度的自动厚度控制。

物性测试仪器

白光干涉测厚仪解决方案

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膜厚光谱分析仪系统

膜厚光谱分析仪系统

  • 品牌: 日本HalfMoon
  • 型号: *
  • 产地:日本
  • 产品特点:?光谱仪(MCPD-9800/MCPD-3700/MCPD-7700)提供丰富选配套件以及客制化光纤。?可依据安装现场需求评估设计。?可灵活架设于各种环境下的最佳即时测量系统。测量项目: 分光光谱仪种类测量波长范围MCPD-9800:高动态范围型360~1100nmMCPD-3700:紫外/可视/近红外光型220~1000nmMCPD-7700:高感度型220~1100nm平面显示器模组测量:平面显示器(FPD)模组、液晶显示器(LCD)模组、电浆显示器(PDP)模组、CRT显示器、OLED面板系统架构: ①光谱仪②受光光纤③放射感应器测量实例: 液晶面板色度测量液晶面板对比测量

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嵌入式膜厚测试仪

嵌入式膜厚测试仪

  • 品牌: 日本HalfMoon
  • 型号: 01
  • 产地:日本
  • 产品特点:?自由搭配的光纤架构,可安装于生产线上、半导体晶圆研磨设备或真空镀膜设备中。?远端同步控制、高速多点同步测量等。?丰富多样的光学系统套件与应用软件,提供特殊环境下最理想的膜厚解决方案。产品架构: ?半导体晶圆面内分布测量?玻璃基板面内分布测量?即时性量测?输送方向的定点品质管理?对应真空环境之设备?即时性测量?输送方向的全面品质管理

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膜厚测量仪

膜厚测量仪

  • 品牌: 日本HalfMoon
  • 型号: -
  • 产地:日本
  • 产品特点:?薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析。?高性能的低价光学薄膜测量仪。?藉由绝对反射率光谱分析膜厚。?完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能。?无复杂设定,操作简单,短时间内即可上手。?非线性最小平方法解析光学常数(n:折射率、k:消光系数)。产品规格: 型号FE-300VFE-300UVFE-300NIR对应膜厚标准型薄膜型厚膜型超厚膜型样品尺寸最大8寸晶圆(厚度5mm)膜厚范围100nm~40μm10nm~20μm3μm~30μm15μm~1.5mm波长范围450nm~780nm300nm~800nm900nm~1600nm1470nm~1600nm膜厚精度±0.2nm以内±0.2nm以内--重复再现性(2σ)0.1nm以内0.1nm以内--测量时间0.1s~10s以内测量口径约Φ3mm光源卤素灯UV用D2灯卤素灯卤素灯通讯界面USB尺寸重量280(W)×570(D)×350(H)mm,约24kg软件功能标准功能波峰波谷解析、FFT解析、最适化法解析、最小二乘法解析选配功能材料分析软件、薄膜模型解析、标准片解析应用范围: ?半导体晶圆膜(光阻、SOI、SiO2等)?光学薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)应用范例:?PET基板上的DLC膜?Si基板上的SiNx

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椭圆偏光膜厚测量仪(手动)

椭圆偏光膜厚测量仪(手动)

  • 品牌: 日本HalfMoon
  • 型号: 1
  • 产地:日本
  • 产品特点:?400波长以上多通道分光的椭偏仪,高速测量椭圆偏光光谱。?自动变更反射测量角度,可得到更详细的薄膜解析数据。?采用正弦杆自动驱动方式,展现测量角度变更时优异的移动精度。?搭载薄膜分析所需的全角度同时测量功能。?可测量晶圆与金属表面的光学常数(n:折射率、k:消光系数)。产品规格: 样品对应尺寸100×100mm测量方式偏光片元件回转方式入射/反射角度范围45~90o入射/反射角度驱动方式反射角度可自动变更波长测量范围300~800nm分光元件Poly-chrometer尺寸650(H)×400(D)×560(W)mm重量约50kg

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椭圆偏光膜厚测试仪(自动)

椭圆偏光膜厚测试仪(自动)

  • 品牌: 日本HalfMoon
  • 型号: //
  • 产地:日本
  • 产品特点:?椭圆偏振术测量紫外光到可见光波长椭圆参数。?0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度测量。?400波长以上多通道分光的椭偏仪,高速测量椭圆偏光光谱。?可自由变换反射测量角度,得到更详细的薄膜解析数据。?非线性最小平方法解析多层膜、光学常数。产品规格: 膜厚测量范围0.1nm~波长测量范围250~800nm(可选择350~1000nm)感光元件光电二极管阵列512ch(电子制冷)入射/反射角度范围45~90o电源规格AC1500VA(全自动型)尺寸1300(H)×900(D)×1750(W)mm重量约350kg(全自动型)应用范围: ■半导体晶圆?电晶体闸极(Gate)氧化薄膜、氮化膜,电极材料等?SiO2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al2O2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN?光阻剂光学常数(波长色散)■化合物半导体?AlxGa(1-x)As多层膜、非结晶矽■平面显示器?配向膜?电浆显示器用ITO、MgO等■新材料?类钻碳薄膜(DLC膜)、超传导性薄膜、磁头薄膜■光学薄膜?TiO2、SiO2、多层膜、抗反射膜、反射膜■平版印刷领域?g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)等于各波长的n、k值评价应用范例: 非线性最小平方法比对NIST标准样品(SiO2)膜厚精度确认

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反射式膜厚测量仪

反射式膜厚测量仪

  • 品牌: 日本HalfMoon
  • 型号:
  • 产地:日本
  • 产品特点: ?非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。?高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱,分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率,k消光系数)。?宽阔的波长测量范围。(190nm-1100nm)?薄膜到厚膜的膜厚测量范围。(1nm~250μm)?对应显微镜下的微距测量口径。产品规格: 标准型厚膜专用型膜存测量范围1nm~40μm0.8μm~250μm波长测量范围190~1100nm750~850nm感光元件PDA512ch(电子制冷)CCD512ch(电子制冷)PDA512ch(电子制冷)光源规格D2(紫外线)、12(可见光)、D2+12(紫外-可见光)12(可见光)电源规格AC100V±10V750VA(自动样品台规格)尺寸4810(H)×770(D)×714(W)mm(自动样品台规格之主体部分)重量约96kg(自动样品台规格之主体部分)应用范围: FPD-LCD、TFT、OLED(有机EL)半导体、复合半导体-矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料资料储存-DVD、磁头薄膜、磁性材料光学材料-滤光片、抗反射膜平面显示器-液晶显示器、膜膜电晶体、OLED薄膜-AR膜其他-建筑用材料测量范围: 玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析

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OSP测量仪

OSP测量仪

  • 品牌: 南京科美
  • 型号: ST4080-OSP
  • 产地:韩国
  • 仪器简介:1996年以来,科美在半导体,平板显示器,电子物质,生命科学和化学分析上,研发和提供了独特的,先进的解决方案。科美,作为测量和分析技术市场上的领头和动力,以它突出的表现得到了世界范围的认可。技术参数:波长范围 420nm ~ 640nm 厚度测量范围 350 ~ 3 最小光斑尺寸 1.35, 0.135 目标面积 864X648 / 86.4X64.8 物镜转动架 5X(spot size 20), 50X(spot size 0.2) 测量层 1 固定样台面积 270mm(L) X 240mm(D) Z轴再现性 ± 1 自动Z装置 Z direction Head Movement Travel range: 50mm Max. velocity: 50mm/s 特征 Non-destructive OSP thickness measurement No sample preparation for fast and easy operation Available to detect OSP coating on Cu with rough surface conditions Auto-focusing function 3D contours results主要特点:ST4080-OSP(有机可焊性保护膜)专用于测量PCB/PW板的铜铂表面的OSP厚度。作为使用分光反射法的非破坏性光学测量仪,它可提供平均厚度和详细的3D平面轮廓资料,使得实时检测无需任何的样品制备。 由于ST4080-OSP具有测量很小面积与自动聚焦功能,适用于PCB基板表面的实模式。ST4080-OSP基于科美公司的厚度测量技术,而它在半导体,平板显示与其他电子材料行业方面的可靠性得到了证实。 为什么要选择 ST4080-OSP? ST4080-OSP使用反射测量法提供PCB/PWB表面OSP涂层厚度的非接触和非破坏性实时测量。 ST4080-OSP 无需样品制备,可确保快速和简便操作。 ST4080-OSP测量的光斑尺寸可减小到0.135,这使得它可测量表面粗糙的铜的OSP涂层厚度. ST4080-OSP 与紫外可见分光计,受迫离子束方法,时序电化学还原分析还有其他的测量方法相比较,它基于更可靠的测量技术。 ST4080-OSP 可获取420nm~640nm范围内的多波长光谱。 ST4080-OSP可提供各点和它们的平均厚度的详细数据,这样可帮助人们更好地控制OSP质量。 ST4080-OSP 通过3D表面形态学将测量程序最优化。

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薄膜厚度测量仪

薄膜厚度测量仪

  • 品牌: 南京科美
  • 型号: ST5000
  • 产地:韩国
  • 仪器简介:1996年以来,科美在半导体,平板显示器,电子物质,生命科学和化学分析上,研发和提供了独特的,先进的解决方案。科美,作为测量和分析技术市场上的领头和动力,以它突出的表现得到了世界范围的认可。技术参数:活动范围 ~300mm x 300mm 测量范围 100~ 35(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40/20,4(option) 测量速度 1~2 sec./site(fitting time) 应用领域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measurement 选择 Transmittance Module Reference Sample(K-MAC or KRISS or NIST) 接物镜旋转器 Quintuple Revolving Nosepiecs 焦点 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附带照明 12v 100W Halogen Lamp主要特点:尺寸 1100 x 1250 x 1550 mm 重量 400kg 类型 自动的 测量方法 无连接的 测量原理 反射计 特征 测量迅速,操作简单 非接触式,非破坏方式 优秀的重复性和再现性 2D/3D 映射和造型 自动机械活动控制 电荷耦合器件照相机 自动调焦

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薄膜厚度测量仪

薄膜厚度测量仪

  • 品牌: 南京科美
  • 型号: ST5030-SL
  • 产地:韩国
  • 仪器简介: 1996年以来,科美在半导体,平板显示器,电子物质,生命科学和化学分析上,研发和提供了独特的,先进的解决方案。科美,作为测量和分析技术市场上的领头和动力,以它突出的表现得到了世界范围的认可。 技术参数: 活动范围 300mm x 300mm 测量范围 100~ 35(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40/20,4(option) 测量速度 1~2 sec./site (fitting time) 应用领域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measure 选择 Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST) Anti-vibration table 接物镜转换器 Quintuple Revolving Nosepiecs 焦点 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附带照明 12v 100W Halogen Lamp 主要特点: 标准模型 工业规格 自动的X-Y平台 自动调焦 半导体和裂变产物探测 尺寸 500 x 750 x 650 mm 重量 80Kg 类型 自动 测量型号 ≤ 4" 测量方法 无连接的 测量原理 反射计 特征 测量迅速,操作简单 非接触式,非破坏方式 优秀的重复性和再现性 2D/3D 映射和造型 自动机械活动控制 电荷耦合器件照相机 自动调焦

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薄膜厚度测量仪

薄膜厚度测量仪

  • 品牌: 南京科美
  • 型号: ST4000-DLX
  • 产地:韩国
  • 仪器简介: 1996年以来,科美在半导体,平板显示器,电子物质,生命科学和化学分析上,研发和提供了独特的,先进的解决方案。科美,作为测量和分析技术市场上的领头和动力,以它突出的表现得到了世界范围的认可。 技术参数: 活动范围 200mm x 200mm(8"), 300mm x 300mm(12") 测量范围 100~ 35(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40/20, 4(option) 测量速度 1~2 sec./site 应用领域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Wafer Measurement & OLED 选项 Programmable Auto Z Stage 参考样品(K-MAC or KRISS or NIST) 焦点 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附带照明 12v 100W Halogen Lamp 主要特点: 尺寸 500 x 610 x 640 mm 重量 45Kg 类型 手动的 测量样本大小 ≤ 8", 12" 测量方法 无连接的 测量原理 反射计 特点 测量迅速,操作简单 非接触式,非破坏方式 Print Function of Each View & Data Saving

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薄膜厚度测量仪ST2000-DLXn

薄膜厚度测量仪ST2000-DLXn

  • 品牌: 南京科美
  • 型号: ST2000-DLXn
  • 产地:韩国
  • 仪器简介: 1996年以来,科美在半导体,平板显示器,电子物质,生命科学和化学分析上,研发和提供了独特的,先进的解决方案。科美,作为测量和分析技术市场上的领头和动力,以它突出的表现得到了世界范围的认可。 技术参数: 活动范围 150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离) 测量范围 200~ 35(根据膜的类型) 光斑尺寸 20 典型值 测量速度 1~2 sec./site 应用领域 聚合体: PVA, PET, PP, PR ... 电解质: SiO2 ,TiO2 , ITO , ZrO2 , Si3N4 .. 半导体: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS... 选择 参考样品(K-MAC or KRISS or NIST) 探头类型 三目探头 nosepiece Quadruple Revolving Mechanism with Inward Tilt 照明类型 12V 35W Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer 主要特点: 尺寸 190 x 265 x 316 mm 重量 12Kg 类型 手动的 测量样本大小 ≤ 4" 测量方法 非接触式 测量原理 反射计 特征 测量迅速,操作简单 非接触式,非破坏方式 优秀的重复性和再现性 用户易操作界面 每个影像打印和数据保存功能 可测量多达3层 可背面反射

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德国应用光谱Plasma Emission Messurement System白光干涉膜厚仪

德国应用光谱Plasma Emission Messurement System白光干涉膜厚仪

  • 品牌: 德国applied-spectroscopy
  • 型号: Plasma Emission Messurement System
  • 产地:德国
  • 等离子体发射测量在紫外线…近红外线范围可同时观察到等离子发射低压等离子沉积技术是一个客观的连续不断的过程,如PVD(物理气象沉积)是今天真正的问题之一。除了等离子体发射光的表观检查,有时也使用质谱技术。但是质谱技术既不方便操作,其结果也不容易理解。与此相比,使用OES(发射光谱)和光纤耦合TranSpec光谱仪的有点是显而易见的。技术特征在200…1000nm光谱范围内可同时测量可检测非常底的发射信号可连接到几乎每个真空室无需维护舒适和易于使用的PEMProVis专业版软件用于全球主要的汽车灯以及CD生产商进行有机膜厚测试

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德国应用光谱TranSpec白光干涉膜厚仪

德国应用光谱TranSpec白光干涉膜厚仪

  • 品牌: 德国applied-spectroscopy
  • 型号: TranSpec
  • 产地:德国
  • 产品描述TranSpec光谱仪结合创新的光电技术与强大的模拟/数字电子技术和最新的计算机技术。借助于灵活的光纤,TranSpec的应用范围从标准的常规实验室分析到在线过程测量技术的特殊任务。使用FSMA标准光纤连接的高稳定性光电二级管阵列分光计使用spurious-free动态范围的1MHz16位模拟/数字转换器针对紫外线……近红外光谱范围可使用不同的分光计模块可选的集成卤素或氘/卤素结合光谱灯无可移动部分-无需重复校准-无需维护可连接到标准USB2.0(USB3.0)或选择连到以太网/局域网可用程序库开发特殊的应用应用领域用于全球主要的汽车灯以及CD生产商进行有机膜厚测试。

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应用光谱TranSpec ­­­­Mirco白光干涉膜厚仪

应用光谱TranSpec ­­­­Mirco白光干涉膜厚仪

  • 品牌: 德国applied-spectroscopy
  • 型号: TranSpec Micro
  • 产地:德国
  • 产品描述TranSpecMicro新的光纤耦合TranSpecMicro薄膜厚度显微镜可以将薄膜厚度测量点的大小降到50-100um。测量点的图像可通过装在显微镜上的特殊彩色相机实时查看。TranSpecMicro薄膜厚度测量仪和我们TranSpec和TranSpecLite仪器一样采用白光干涉原理。为了测量非常小的点,TranSpecMicro使用装有实时显示相机的光纤耦合显微镜。光纤耦合纤维镜可以将薄膜厚度测量点的大小降到50-100um(根据放大倍数的不同),测量点的图像可通过装在显微镜上的特殊彩色相机实时查看。应用领域主要用于全球主要的汽车灯以及CD生产商进行有机膜厚测试。

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德国应用光谱TranSpec ­Lite白光干涉膜厚仪

德国应用光谱TranSpec ­Lite白光干涉膜厚仪

  • 品牌: 德国applied-spectroscopy
  • 型号: Transpec Lite
  • 产地:德国
  • 技术特点光学方法,非接触、无损测量,安全无辐射。快速膜厚分析,只需几毫秒即可获得测量结果膜厚测量范围 0.1- 150微米( 0.004 to 6 mil )极高的分析准确度,在整个厚度测量范围内偏差小于0.005微米可同时分析计算两层膜厚可同时支持实验室离线分析或者在线生产分析主要用于全球主要的汽车灯以及CD生产商进行有机膜厚测试。

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【海洋光学】NanoCalc薄膜反射光谱仪系统

【海洋光学】NanoCalc薄膜反射光谱仪系统

  • 品牌: 美国海洋光学
  • 型号: NanoCalc
  • 产地:美国
  • NanoCalc 薄膜反射测量系统 薄膜的光学特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射测量系统可以用来进行10nm~250m的膜厚分析测量,对单层膜的分辨率为0.1nm。根据测量软件的不同,可以分析单层或多层膜厚。 产品特点 可分析单层或多层薄膜 分辨率达0.1nm 适合于在线监测 操作理论 最常用的两种测量薄膜的特性的方法为光学反射和投射测量、椭圆光度法测量。NanoCalc利用反射原理进行膜厚测量。 查找n和k值 可以进行多达三层的薄膜测量,薄膜和基体测量可以是金属、电介质、无定形材料或硅晶等。NanoCalc软件包含了大多数材料的n和k值数据库,用户也可以自己添加和编辑。 应用 NanoCalc薄膜反射材料系统适合于在线膜厚和去除率测量,包括氧化层、中氮化硅薄膜、感光胶片及其它类型的薄膜。NanoCalc也可测量在钢、铝、铜、陶瓷、塑料等物质上的抗反射涂层、抗磨涂层等。 NanoCalc系统 NC-UV-VIS-NIR 重量: 250-1100 nm 厚度: 10 nm-70 m 光源: 氘卤灯 NC-UV-VIS 重量: 250-850 nm 厚度: 10 nm-20 m 光源: 氘卤灯 NC-VIS-NIR 重量: 400-1100 nm 厚度: 20nm-100m (可选1m-250m) 光源: 卤灯 NC-VIS 重量: 400-850 nm 厚度: 50 nm-20μm 光源: 卤灯 NC-NIR 重量: 650-1100 nm 厚度: 70 nm-70μm 光源: 卤灯 NC-NIR-HR 重量: 650-1100nm 厚度: 70 nm-70μm 光源: 卤灯 NC-512-NIR 重量: 900-1700 nm 厚度: 50 nm-200μm 光源: 高亮度卤灯 NanoCalc规格 入射角: 90° 层数: 3层以下 需要进行参考值测量: 是 透明材料: 是 传输模式: 是 粗糙材料: 是 测量速度: 100ms - 1s 在线监测: 可以 公差(高度): 参考值测量或准直(74-UV) 公差(角度): 参考值测量 微黑子选项: 配显微镜 显示选项: 配显微镜 定位选项: 6"和12" XYZ 定位台 真空: 可以

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薄膜测厚仪

薄膜测厚仪

  • 品牌: 美国Semiconsoft
  • 型号: MProbe
  • 产地:美国
  • MProbe 薄 膜 测 量 系 统 M p r o b e 让 你 成 为 测 量 专 家 ! 大部分半透明的或具有轻微吸收性的薄膜能够被快速、可靠的测量: 氧化物、氮化物、感光耐蚀膜、聚合物、半导体(Si, aSi,polySi)、半导体化合物(AlGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS)、硬涂层(SiC, DLC), 聚合物涂料 (Paralene, 聚甲基丙烯酸甲酯, 聚酰胺), 薄金属薄膜等。 厚度范围: 1 nm-1 mm 波长范围: 200nm -5000nm 在薄膜太阳能电池中的应用: aSi, TCO, CIGS, CdS, CdTe-全太阳能堆栈测量 LCD, FPD应用: ITO, 细胞间隙,聚酰胺。 光学涂层: 介质滤波器,硬涂层,防反射涂层半导体和电解质: 氧化物,氮化物, OLED堆。 实时测量和分析。各种多层次的, 高强度的,厚的, 独立和不均匀的层 。 丰富的材料库 (500多种材料) 新材料容易增添。 支持参数化材料: Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA 等 使用灵活: 可联网在操作台桌面或现场进行研究与开发。用TCP或Modbus接口能容易的和外部系统连接。 测量参数: 厚度、光学常数、表面粗糙度。 界面友好强大: 测量和分析设置简单。背景和缩放修正,连接层和材料。 离线数据分析: 仿真和灵敏度分析,多样品测量,生产批量处理。 MProbe系统示意图 精度 0.01nm or 0.01% 精确度 0.2% or 1 nm 稳定性 0.02nm or 0.03% 光斑尺寸 标准为 3mm , 可以小到 3μm 样本大小 从 1mm 起 主要参数 模型 波长 范围光谱仪探测器/检测器/光源 厚度范围 * VIS 400-1100 nm 分光仪 F4/Si 3600像素点/ 钨-卤素光源 15 nm to 20 mm (option:up to 50 mm) UVVisSR 200-1100 nm 分光仪 F4/ Si CCD 3600 像素点/氘-钨卤组合式光源 3 nm to 20 mm (option:up to 50 mm) HRVIS 700-1000 nm HR分光仪F4/Si 3600 像素点/ 钨-卤素光源 1 mm to 400 mm NIR 900-1700nm 传输光谱仪(TVG) F2/512 InGaAs/钨-卤素光源 100 nm-200 mm VISNIR 400-1700 nm 分光仪 F4 Si CCD 3600 像素点 (Vischannel);传输光谱仪(TVG) F2/512 InGaAs PDA( NIR channel) 钨-卤素光源 15 nm to 200 mm UVVISNIR 200 -1700 nm 分光仪F4 Si CCD 3600 像素点(Vis频道);传输 氘-钨卤组合式光源 3 nm -200 mm NIRScan 900nm -5000nm 扫描分光计/InGaAs/ MCT 探测器 (扫描时间 <60 秒 ) TH-SiN光源 100 nm -800 mm XT XT 1590nm -1650nm 传输光谱仪 (TVG) F2/512 InGaAs/钨 -卤素光源 10 mm- 1 mm * T, n & k 测量的厚度范围为25nm 5um 其他配置也是可以做到,欢迎原始设备制造商咨询和定制开发项目。 对所有系统中的配件有一年的质量保证。

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Kurabo NR2100 油膜测厚仪(汽车、冷轧板)

Kurabo NR2100 油膜测厚仪(汽车、冷轧板)

  • 品牌: 日本仓纺
  • 型号: NR 2100
  • 产地:日本
  • 仪器用途简介:汽车钢板上的防锈油、滚轧润滑油等涂油量的测量耐指纹、润滑性钢板等有机油膜厚度的测量铝罐(易拉罐内壁)等有机膜涂布量的测量彩色钢板的底漆厚度及背面涂布量的测量其他金属上有机膜涂布量的测量技术参数:测量方法:红外反射吸收方式(旋转过滤器方式)测量范围:0.1~10μm反复再现性:0.01μm以下测量面积:518×36mm(椭圆)尺寸・重量:100(W)×210(D)×145(H)、约1.5kg主要特点:三点定位,独特光源,精确精确再精确。本产品深得钢铁业、铝业客户厚爱。如果把红外线照射到被测物上,就会发生与膜厚相对应的特定波长的红外线吸收现象。从透过光或镜面金属板的正反射光来掌握吸收量,再按事先测得的吸光度与水分值的关系式,可以测量膜厚。并且,采用本公司独自的P偏光入射方式。消除因表面反射或内部多重反射引起的误差,提供红外线测厚仪最理想的硬件。 小型、轻量自由携带,可测量钢板上的任意位置。 高性能通过采用P偏光方式,即使是薄的有机膜也可测量。 内置打印机因内部设置了打印机,数据的整理变得极为简单。

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美国Rtec三维形貌仪

美国Rtec三维形貌仪

  • 品牌: 美国Rtec
  • 型号: UP- 3D
  • 产地:美国
  • 美国Rtec三维形貌仪测量系统沿着纵轴捕获一系列位置的光强数据。通过白光干涉图的形状,干涉图的局部相位或者是二者的结合来确定表面位置。本公司还有激光共焦,白光共焦,拉曼光谱仪等,可以把这些设备自由组合在一起,以实现客户的不同需求特点:快速直观的操作较高的计算程序,精确的高测量速度和简便的操作软件,使用户能够快速的分析和创建报告多个物镜带有6物镜转轮,包括多个物镜:长焦,短焦,不同数值孔径,投射镜头等电子器件先进的控制器,低机械噪声,自校准系统,可选波长,64位并行处理器,标准分辨率达到1920*1920硬件能够被固定到全自动化的平台,高强度LED10年保修,高级精加工零部件,低能耗,远程访问,内置相机侧视图,有效照明等。软件三维虚拟软件影像分析多种标准,粗糙,平面,波浪以及其他表面参数微粒(粒子)和细孔分析力曲线分析附带傅里叶分析过滤用户界面报告的创建和编辑影像编辑特征-光,颜色等尺寸,表面积,体积,承载比分析纹理计算,分类,其他纹理分析光谱和分形分析先进的统计分析能够输出原始数据,影像,全部报告数个可用的附加功能参数:内校准4百万像素可选波长高强度长寿命LED1920*1920成像64位中央处理器低机械噪声并行处理6物镜转轮

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三维白光干涉仪

三维白光干涉仪

  • 品牌: 美国Rtec
  • 型号: UP-WLI
  • 产地:美国
  • 白光干涉测量系统沿着垂直轴向捕获光强数据,通过白光干涉图的形状,局部相位或者两者结合确定表面位置 Vertical Resolution 垂直分辨率 0.1nm 0.1nm Turret 转轮 upto 6 objective turret (manual or automatic) 6镜头转轮(自动或手动) Scan Range 扫描范围 Up to 150mm x 150mm 最高达150mmx150mm Sample thickness 试样厚度 upto 100mm 最高达100mm FOV 视场 upto 10mm 最高达10mm Objectives 物镜 10x,50x 10倍,50倍 Z focussing range Z轴方向聚焦范围 nm to 10mm 0.1nm到10mm Scanning area 扫描区域 150x150mm 150x150mm Tilt 倾斜角 +/- 7 degree +/-7度 Rotation (theta) 平台旋转范围 360 Degree 360度 Pixel 像素 Standard 1024 x 1024 标准1024x1024

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膜厚仪

膜厚仪

  • 品牌: 美国AEP Technology
  • 型号: NanoMap-1000WLI(0)
  • 产地:美国
  • NanoMap-1000WLI 膜厚仪仪器简介:该膜厚仪提供了二维分析、三维分析、表面纹理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、体积、角度计算、曲率计算、模拟一维分析、数据输出、数据自动动态存储、自定义数据显示格式等。综合绘图软件可以采集、分析、处理和可视化数据。表面统计的计算包括峰值和谷值分析。基于傅立叶变换的空间过滤工具使得高通、低通、通频带和带阻能滤波器变的容易。多项式配置、数据配置、扫描、屏蔽和插值。交互缩放。X-Y和线段剖面。三维线路、混合和固定绘图。用于阶越高度测量的地区差异绘图。主要特点:◆微观二维(2D)和三维(3D)形貌轮廓获取◆多种测量功能将采样数据运算后,可获得精确定量的面积(空隙率,缺陷密度,磨损轮廓截面积等)、体积(孔深,点蚀,图案化表面,材料表面磨损体积以及球状和环状工件表面磨损体积等)、台阶高度、线与面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半径以及其它几何参数等测量数据。NanoMap-1000WLINanoMap-1000WLI膜厚仪是非接触式三维高清图像的光学轮廓仪白光干涉仪器 - 白光干涉带来了高的分辨率、 400万像素的图像、大的扫描范围,可定制的波长范范围,使用户可以轻松灵活的的到任何表面形貌。提供了二维分析、三维分析、表面纹理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、体积、角度计算、曲率计算、模拟一维分析、数据输出、数据自动动态存储、自定义数据显示格式等。综合绘图软件可以采集、分析、处理和可视化数据。表面统计的计算包括峰值和谷值分析。基于傅立叶变换的空间过滤工具使得高通、低通、通频带和带阻能滤波器变的容易。多项式配置、数据配置、扫描、屏蔽和插值。交互缩放。X-Y和线段剖面。三维线路、混合和固定绘图。用于阶越高度测量的地区差异绘图。膜厚仪主要应用在金属材料、生物材料、聚合物材料、陶瓷材料等各种材料表面的薄膜厚度,台阶高度,二维粗糙度(Ra,Rq,Rmax...),三维粗糙度(Sa,Sq,Smax),划痕截面面积,划痕体积,磨损面积,磨损体积,磨损深度,薄膜应力(曲定量率半径法)等定量测量。摆脱了以往只能得到二维信息,或三维信息过于粗糙的现状。将轮廓仪带入了另一个高精度测量的新时代。测量表面可以覆盖90%以上材料表面。设备传感器精度高,稳定性好,材料应用面广。热噪声是同类产品最低的。垂直分辨率可达0.01 nm ( phase-shift mode) 可测跨学科、跨领域的各种样品表面,包括透明、金属材料,半透明、高漫反射,低反射率、抛光、粗糙材料(金属、玻璃、木头、合成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿…);三维形貌仪参数性能追寻持续改进的目标AEP的技术致力于日新月异的改善产品性能参数。 欲了解最新的配置和性能,请与我们联系。搭载多镜头 最多可同时搭载6枚物镜Z轴聚焦范围 0.1纳米至10mm手动旋转平台范围 360度高清图像2维、3维的直方图等视图白光干涉可以呈现2维和3维图像。利用所提供的软件,通过设置一些选项、可以得到客户需求的的曲线、标绘、视图(例如直方图及雷达图等)成像光源长寿命强光LED,用户可自选波长范围白光干涉仪对其光源承诺史无前例的十年质保。高亮的LED允许成像样品的反射率范围从小于0.4%到100%(高亮度的LED使反射率从小于0.4%到100%的样品均可清晰成像。)白光干涉光源承诺十年质保。三维形貌仪允许客户改变可用波长扫描各种样品。联系方式:aep Technology电话:+86-010-68187909传真:+86-010-68187909手机:+86-15611184708何先生公司网址:www.aeptechnolongy.com.cn关

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台阶仪台阶测量仪

台阶仪台阶测量仪

  • 品牌: 美国AEP Technology
  • 型号: NanoMap-1000WLI(1)
  • 产地:美国
  • 仪器简介:台阶仪该款台阶仪提供了二维分析、三维分析、表面纹理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、体积、角度计算、曲率计算、模拟一维分析、数据输出、数据自动动态存储、自定义数据显示格式等。综合绘图软件可以采集、分析、处理和可视化数据。表面统计的计算包括峰值和谷值分析。基于傅立叶变换的空间过滤工具使得高通、低通、通频带和带阻能滤波器变的容易。多项式配置、数据配置、扫描、屏蔽和插值。交互缩放。X-Y和线段剖面。三维线路、混合和固定绘图。用于阶越高度测量的地区差异绘图。台阶仪主要特点: ◆微观二维(2D)和三维(3D)形貌轮廓获取 ◆多种测量功能 将采样数据运算后,可获得精确定量的面积(空隙率,缺陷密度,磨损轮廓截面积等)、体积(孔深,点蚀,图案化表面,材料表面磨损体积以及球状和环状工件表面磨损体积等)、台阶高度、线与面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半径以及其它几何参数等测量数据。 NanoMap-1000WLI NanoMap-1000WLI台阶仪是非接触式三维高清图像的光学轮廓仪白光干涉仪器 - 白光干涉带来了高的分辨率、 400万像素的图像、大的扫描范围,可定制的波长范范围,使用户可以轻松灵活的的到任何表面形貌。提供了二维分析、三维分析、表面纹理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、体积、角度计算、曲率计算、模拟一维分析、数据输出、数据自动动态存储、自定义数据显示格式等。综合绘图软件可以采集、分析、处理和可视化数据。表面统计的计算包括峰值和谷值分析。基于傅立叶变换的空间过滤工具使得高通、低通、通频带和带阻能滤波器变的容易。多项式配置、数据配置、扫描、屏蔽和插值。交互缩放。X-Y和线段剖面。三维线路、混合和固定绘图。用于阶越高度测量的地区差异绘图。 台阶仪主要应用在金属材料、生物材料、聚合物材料、陶瓷材料等各种材料表面的薄膜厚度,台阶高度,二维粗糙度(Ra,Rq,Rmax...),三维粗糙度(Sa,Sq,Smax),划痕截面面积,划痕体积,磨损面积,磨损体积,磨损深度,薄膜应力(曲定量率半径法)等定量测量。摆脱了以往只能得到二维信息,或三维信息过于粗糙的现状。将轮廓仪带入了另一个高精度测量的新时代。 测量表面可以覆盖90%以上材料表面。设备传感器精度高,稳定性好,材料应用面广。热噪声是同类产品最低的。垂直分辨率可达0.01 nm ( phase-shift mode) 可测跨学科、跨领域的各种样品表面,包括透明、金属材料,半透明、高漫反射,低反射率、抛光、粗糙材料(金属、玻璃、木头、合成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿…); 台阶仪 参数性能追寻持续改进的目标 AEP的技术致力于日新月异的改善产品性能参数。 欲了解最新的配置和性能,请与我们联系。 搭载多镜头 最多可同时搭载6枚物镜 Z轴聚焦范围 0.1纳米至10mm 手动旋转平台范围 360度 高清图像 2维、3维的直方图等视图 白光干涉可以呈现2维和3维图像。利用所提供的软件,通过设置一些选项、可以得到客户需求的的曲线、标绘、视图(例如直方图及雷达图等) 台阶仪成像光源 长寿命强光LED,用户可自选波长范围 白光干涉仪对其光源承诺史无前例的十年质保。高亮的LED允许成像样品的反射率范围从小于0.4%到100%(高亮度的LED使反射率从小于0.4%到100%的样品均可清晰成像。)白光干涉光源承诺十年质保。 三维形貌仪允许客户改变可用波长扫描各种样品。 联系方式:aep Technology 电话:+86-010-68187909 传真:+86-010-68187909 手机:+86-15611184708何先生 公司网址:www.aeptechnolongy.com.cn关键词:三维表面轮廓仪、三维轮廓仪、白光干涉仪、三维台阶仪、三维薄膜分析仪、三维形貌仪、三维粗糙度仪、表面轮廓仪、表面台阶仪、薄膜分析仪、表面形貌仪、表面粗糙度仪、非接触式轮廓仪、非接触式台阶仪、非接触式表面形貌仪、非接触式表面粗糙度仪、接触式轮廓仪、接触式台阶仪、接触式表面形貌仪、接触式表面粗糙度仪、探针式轮廓仪、探针式台阶仪、探针式表面形貌仪、探针式表面粗糙度仪、双模式轮廓仪、双模式台阶仪、双模式表面形貌仪、双模式表面粗糙度仪、三维表面轮廓仪、三维表面台阶仪、三维表面形貌仪、三维表面粗糙度仪,表面台阶仪,三维台阶仪,薄膜台阶仪,微观台阶仪,台阶测量仪

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薄膜测厚仪

薄膜测厚仪

  • 品牌: 美国AEP Technology
  • 型号: NanoMap-WLS
  • 产地:美国
  • 薄膜测厚仪仪器简介:提供了二维分析、三维分析、表面纹理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、体积、角度计算、曲率计算、模拟一维分析、数据输出、数据自动动态存储、自定义数据显示格式等。综合绘图软件可以采集、分析、处理和可视化数据。表面统计的计算包括峰值和谷值分析。基于傅立叶变换的空间过滤工具使得高通、低通、通频带和带阻能滤波器变的容易。多项式配置、数据配置、扫描、屏蔽和插值。交互缩放。X-Y和线段剖面。三维线路、混合和固定绘图。用于阶越高度测量的地区差异绘图。膜厚仪主要特点:◆微观二维(2D)和三维(3D)形貌轮廓获取◆多种测量功能将采样数据运算后,可获得精确定量的面积(空隙率,缺陷密度,磨损轮廓截面积等)、体积(孔深,点蚀,图案化表面,材料表面磨损体积以及球状和环状工件表面磨损体积等)、台阶高度、线与面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半径以及其它几何参数等测量数据。NanoMap-1000WLINanoMap-1000WLI膜厚仪是非接触式三维高清图像的光学轮廓仪白光干涉仪器 - 白光干涉带来了高的分辨率、 400万像素的图像、大的扫描范围,可定制的波长范范围,使用户可以轻松灵活的的到任何表面形貌。提供了二维分析、三维分析、表面纹理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、体积、角度计算、曲率计算、模拟一维分析、数据输出、数据自动动态存储、自定义数据显示格式等。综合绘图软件可以采集、分析、处理和可视化数据。表面统计的计算包括峰值和谷值分析。基于傅立叶变换的空间过滤工具使得高通、低通、通频带和带阻能滤波器变的容易。多项式配置、数据配置、扫描、屏蔽和插值。交互缩放。X-Y和线段剖面。三维线路、混合和固定绘图。用于阶越高度测量的地区差异绘图。测量表面可以覆盖90%以上材料表面。设备传感器精度高,稳定性好,材料应用面广。热噪声是同类产品最低的。垂直分辨率可达0.01 nm ( phase-shift mode) 可测跨学科、跨领域的各种样品表面,包括透明、金属材料,半透明、高漫反射,低反射率、抛光、粗糙材料(金属、玻璃、木头、合成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿…);膜厚仪参数性能追寻持续改进的目标AEP的技术致力于日新月异的改善产品性能参数。 欲了解最新的配置和性能,请与我们联系。搭载多镜头 最多可同时搭载6枚物镜Z轴聚焦范围 0.1纳米至10mm手动旋转平台范围 360度高清图像2维、3维的直方图等视图白光干涉可以呈现2维和3维图像。利用所提供的软件,通过设置一些选项、可以得到客户需求的的曲线、标绘、视图(例如直方图及雷达图等)成像光源长寿命强光LED,用户可自选波长范围白光干涉仪对其光源承诺史无前例的十年质保。高亮的LED允许成像样品的反射率范围从小于0.4%到100%(高亮度的LED使反射率从小于0.4%到100%的样品均可清晰成像。)白光干涉光源承诺十年质保。三维形貌仪允许客户改变可用波长扫描各种样品。联系方式:aep Technology电话:+86-010-68187909传真:+86-010-68187909手机:+86-15611184708何先生公司网址:www.aeptechnolongy.com.cn

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进口德国BMT WLI VLA干涉仪

进口德国BMT WLI VLA干涉仪

  • 品牌: 德国BMT
  • 型号: WLI VLA
  • 产地:德国
  • 德国BMT WLI VLA干涉仪德国BMT WLI VLA干涉仪可快色准确的测量粗糙和镜面反射工件的表面轮廓。可用于测量平整度、波纹度、扭曲、台阶高度和多种其他表面特性。产品特点:粗糙和镜面反射表面的微观测量平整度和轮廓测量测量结果不受样品的颜色和材料影响测量时间短,数秒完成测量范围大快速分析表面结构非常小巧自动获取数据并评估进行可定制各种配置几乎免维护技术参数:光源 LED测量范围 (mm) 15垂直分辨率(nm) ≥1横向分辨率(μm) 20-80测量面积 (mm) 10×10 40×40工作距离 (mm) 24数码相机<14位(Pixel) 1280×1024

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进口德国BMT WLI Infra干涉仪

进口德国BMT WLI Infra干涉仪

  • 品牌: 德国BMT
  • 型号: WLI Infra
  • 产地:德国
  • WLI Infra干涉仪德国BMT WLI Infra干涉仪是用于硅薄膜的厚度测量设备。仪器适用于实验室、车间和生产线上的质量管理。测量头提供空前的重复性,设计坚固紧凑、免维护,适用于在线测量。产品特点:MEMS、硅梁、透明薄材料的非接触高精度厚度测量;纳米级分辨率;手动或自动测量步骤设计,简单易用;不受温度变化和热效应的影响;极佳的重复性;可配备表面轮廓测量。技术参数:厚度分辨率(nm) <1探针大小 (μm) 约150(可定制)厚度范围 (μm) 0.1-600仪器尺寸 (mm) 320x320x380重量 (kg) 120晶圆夹具 定制,可达30cm 全自动测量标准或定制的软件包

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德国BMT WLI Lab 白光干涉仪

德国BMT WLI Lab 白光干涉仪

  • 品牌: 德国BMT
  • 型号: WLI Lab
  • 产地:德国
  • 德国BMT WLI Lab 白光干涉仪德国BMT WLI Lab 白光干涉仪可准确快速测量表面轮廓、粗糙度参数、台阶高度及其他各种表面参数,具有稳定性高,设计坚固和易于操作的特点。LED光源的应用使得在即使是很微弱的反射表面上也可进行测量。专为电子、汽车、工程工业、研究所而特别研发。主要用途: ........◆ 粗糙和光滑表面的显微测量◆ 产品凸凹结构图◆ 可根据特殊用途定制主要特点:◆粗糙和光滑表面的显微测量;◆数秒内快速测量;◆快速更换被测物;◆测量结果不受样品的颜色和材料影响;◆产品坚固耐用。技术数据:◆光源: LED(多个)◆垂直分辨率(nm) <0.1◆焦距,大约(mm) 15◆图像尺寸(像素) 1400×1000移动平台◆X、Y、Z轴(mm) 50~300或更大◆步长(μm) 1◆平直度/100mm 约1μm冷轧和拉丝不锈钢表面的显微测量和特性描述

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德国BMT WLI RING 干涉仪

德国BMT WLI RING 干涉仪

  • 品牌: 德国BMT
  • 型号: WLIRING
  • 产地:德国
  • WLIRing 测量系统用于快速准确测量圆柱形工件的表面形貌,计算粗糙度参数,微观结构,及外壁表面特征。WLI Ring 产品特点● 对内外壁都可进行测量;● 光滑粗糙表面都可进行测量;● 测量结果不受工件的颜色和材料影响;● 数秒内快速测量;● 用于在线测量的OEM测量头。技术参数测量头光源: LED垂直分辨率(nm): <1水平分辨率(μm):≥1焦距,大约(mm): 1测量区域的尺寸: 由物体决定图像尺寸(Pixel): 1000&×1000

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德国BMT WLI Linik干涉仪

德国BMT WLI Linik干涉仪

  • 品牌: 德国BMT
  • 型号: WLI Linik
  • 产地:德国
  • 德国BMT WLI Linik干涉仪 特点: 区域表面的形貌测量; 数秒内快速测量; 粗糙和光滑表面都可测量; 测量结果不受样品的颜色和材料影响; 产品坚固耐用。 技术参数: 光源 LED 测量范围 (mm) 150 垂直分辨率(nm) 1 横向分辨率(μm) >0.2 测量面积 (μm) 90×70 工作距离,约(mm) 0.3 光斑尺寸,约(μm) 0.95 图像尺寸(Pixel) 1~10

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德国BMT WLI LA 白光干涉仪

德国BMT WLI LA 白光干涉仪

  • 品牌: 德国BMT
  • 型号: WLI LA
  • 产地:德国
  • WLI LA 白光干涉仪德国BMT WLI LA 白光干涉仪比使用显微物镜的设备可测面积大得多,同时具有非常高的数值孔径。非常适于平整度测量。特点:● 表面轮廓和平整度测量;● 粗糙和光滑表面均可测量;● 测量不受颜色和材料影响;● 数秒内完成测量;● 测量范围大。技术参数:适用于较大面积平面的表面结构形状测量测量头● 光源 LED● 测量范围 (μm) 100/150● 垂直分辨率(nm) ≥1● 横向分辨率(μm) 30● 测量面积 (mm) 14×10● 工作距离 (mm) 24● 数码相机<14位(Pixel) 1392×1040

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NanoCalc薄膜反射光谱仪系统

NanoCalc薄膜反射光谱仪系统

  • 品牌: 美国海洋光学
  • 型号: NanoCalc
  • 产地:美国
  • NanoCalc 薄膜反射测量系统薄膜的光学特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射测量系统可以用来进行10nm~250μm的膜厚分析测量,对单层膜的分辨率为0.1nm。根据测量软件的不同,可以分析单层或多层膜厚。产品特点可分析单层或多层薄膜分辨率达0.1nm适合于在线监测操作理论最常用的两种测量薄膜的特性的方法为光学反射和投射测量、椭圆光度法测量。NanoCalc利用反射原理进行膜厚测量。查找n和k值可以进行多达三层的薄膜测量,薄膜和基体测量可以是金属、电介质、无定形材料或硅晶等。NanoCalc软件包含了大多数材料的n和k值数据库,用户也可以自己添加和编辑。应用NanoCalc薄膜反射材料系统适合于在线膜厚和去除率测量,包括氧化层、中氮化硅薄膜、感光胶片及其它类型的薄膜。NanoCalc也可测量在钢、铝、铜、陶瓷、塑料等物质上的抗反射涂层、抗磨涂层等。NanoCalc系统NC-UV-VIS-NIR重量:250-1100 nm厚度:10 nm-70 μm光源:氘卤灯NC-UV-VIS重量:250-850 nm厚度:10 nm-20 μm光源:氘卤灯NC-VIS-NIR重量:400-1100 nm厚度:20nm-100μm (可选1μm-250μm)光源:卤灯NC-VIS重量:400-850 nm厚度:50 nm-20μm光源:卤灯NC-NIR重量:650-1100 nm厚度:70 nm-70μm光源:卤灯NC-NIR-HR重量:650-1100nm厚度:70 nm-70μm光源:卤灯NC-512-NIR重量:900-1700 nm厚度:50 nm-200μm光源:高亮度卤灯NanoCalc规格入射角:90°层数:3层以下需要进行参考值测量:是透明材料:是传输模式:是粗糙材料:是测量速度:100ms - 1s在线监测:可以公差(高度):参考值测量或准直(74-UV)公差(角度):参考值测量微黑子选项:配显微镜显示选项:配显微镜定位选项:6"和12" XYZ 定位台真空:可以

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