德国ThetaMetrisis FR-ES精简薄膜厚度测量特性分析系统
FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Mini 膜厚测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Pro 膜厚测量仪
德国TheMetrisis FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
自动进样稀释模块ASDM
用于电感耦合等离子体(ICP)的自动进样器。样品溶液能够自动稀释 2 至 1000 倍,并且与自动进样系统(ASAS)相结合时,能够自动添加标准溶液。
◆ 待稀释的样品溶液放置在左侧架子上,它们会自动在中 央架子上进行稀释和准备。无需稀释即可分析的样品放置在右侧架子上。
◆ 在测量样品期间,进行稀释探头的清洗以及下一个稀释样品的制备。
◆ ASDM 有两种型号可供选择:一种适用于酸性和碱性溶液,另一种适用于有机溶剂。
◆ 可根据所需的稀释倍数选择注射器。
2 - 20 倍稀释
1 支注射器(标准:10 毫升注射器)
50 - 1000 倍稀释
2 支注射器
◆ 一旦创建了配方(稀释条件设置文件),并与 ASAS 一起设置了序列,该序列就会执行,并且使用标准加入法进行定量分析会自动完成。


一旦在 ASDM 软件中指定的配方在 ASAS 软件中被指定,标准溶液的稀释和添加就可以自动执行。
自动进样软件的主要功能
食谱
为每个样本设置详细的稀释参数,如稀释因子、比重、搅拌等。
模式 / 自动
根据注册配方制备稀释样品以及清洁稀释口。
模式/手动
Dobot-D 和 -S 的手动操作(探头控制臂)
注射器的手动操作
食谱创作的协助
向每个端口手动供应冲洗液等。
每个端口的持续冲洗
稀释管的清洁
模式/维护
・Dobot-D、-S 位置示教

稀释比例
对于水样:2 - 20 次(标准)
多达 1000 倍稀释,需额外配备注射器装置(可选)
对于有机样本:2 - 1000 次(标准)
样品架
对于水样:50 毫升容器,21 位×2
稀释样本和非稀释样本各一份
选项
对于水样:超纯水供水泵,额外的注射器装置
环境与设施
室温:15 - 30℃
湿度:35 - 85%相对湿度,无冷凝
海拔:2000 米
电源:100 - 240 伏交流电±10%,5 安单相 50/60 赫兹
尺寸:940(宽)× 776(深)× 860(高)毫米
重量:95 千克(水性的),85 千克(有机的)

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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。