德国KSI 八探头大型超声波扫描显微镜系统V-Octo
德国KSI 单探头超声波扫描显微镜V300E
德国KSI单探头多用途超声波扫描显微镜 V400E
KSI 单探头超声波扫描显微镜v700E
德国KSI 四探头超声波扫描显微镜V-quattro系统
KSI V-Octo 八探头大型超声波扫描显微镜系统
大型8探头超声波扫描显微镜分析系统
该系统同时使用8只换能器，能最大限度的确保快速图像采集和高效能。
- 最大扫描速度：2000 mm/s
- 与其它品牌相比扫描效率高30%
- 最大扫描范围：1000mm×700mm
- 最小扫描范围：200μm×200μm
- 带宽：550MHz
- 最大放大倍数：250倍
- 新型换能器
报价：面议
已咨询2813次德国 KSI超声波扫描显微镜
报价：面议
已咨询2970次德国 KSI超声波扫描显微镜
报价：面议
已咨询1092次德国 KSI超声波扫描显微镜
报价：面议
已咨询3723次德国 KSI超声波扫描显微镜
报价：面议
已咨询4003次德国 KSI超声波扫描显微镜
报价：面议
已咨询1894次德国 KSI超声波扫描显微镜
报价：面议
已咨询1369次显微镜/扫描电镜
报价：面议
已咨询1358次德国 KSI超声波扫描显微镜
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
营业执照已审核
分享
收藏
沪公网安备 31011502008050号