瑞士Sawatec 3D微观结构的均匀喷涂机 Leaflet_ispay-300_cn
瑞士Sawatec 显影机Leaflet_SMD-200
瑞士 sawatec 热版机 HP-150
瑞士Sawatec 匀胶机SM-150
瑞士Sawatec匀胶机/热版机/显影机/喷胶机
瑞士 sawatec HP-150 热版机，电炉 HP-150
精密软硬烘烤
该热板HP-150是为典型的软烘焙和硬烘焙工艺的岩性，在MEMS和类似的应用。默认情况下，温度范围设计为250℃以下。设定的温度和温度分布具有较窄的边界，这意味着可以达到较高的涂层质量。HP系列产品具有较高的均匀性和高精度的工艺重复性，令人信服。可用于直径150mm以下，最大厚度5mm的衬底。
热板易于平整，防止光刻胶通过真空手动固定基板的放电手动加载和卸载基板。
性能数据
温度范围:环境温度250℃以下温度精度:100℃时+/- 1℃
额外的功能(选项)
氮气手动冲洗，不氧化
简单的设置工具，为优化对齐的热板
功能(基本配置)
温度控制采用数字目标值和实际值显示，温度自动限位开关，无过热现象
热板采用安全玻璃，清洗方便
需要媒体
230 VAC 50/60Hz 10A (350W)
技术真空,管Ø6/4mm(-0.8条)BT排气排气扇
瑞士质量
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统，适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配3或4个），支持射频、直流或脉冲直流电源，最多可支持3条气体管路，支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个），速率控制沉积，可沉积多层薄膜，选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源（数量最多 8 个），可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积，包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
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