Hirox桌上型扫描电镜系列 Tabletop SEM具有强大的性能和友好易用的操作性。该系列具有紧凑的设计,自动对焦、自动亮度和对比度调节等功能,提供给用户高清晰、高倍率的扫描电镜影像。 此外根据实际应用需求,可以选配加载EDX系统、即能谱仪或许多其他周边设备。 即避免了复杂的系统维护和测试时间,同时又节省了制做样品的高昂成本,因此也更具性价比。SH系列 Tabletop SEM的数字化的图像采集和储存或传输使之无论在企业、科研或教学等应用领域具有更高的效率。
桌上型扫描电子显微镜 SH-4000M
超越光学极限的高倍率 ■ 最高倍率达60,000X ■ 加速电压5kV~30kV范围可调 ■ 多种真空模式-标准/荷电减轻 ■ 等待时间少于2分钟 ■ 3轴控制载物台-X方向、Y方向和Z方向 非导电性样品无须涂层、快速简便 ■ 任何人都能使用的自动调整功能 影像鲜明的扫描电镜 ■ 高分辨率最高可达5百万像素 |

选配件
离子溅射仪:
操作快捷简便
装载样品尺寸:
最大50mm
靶材:Au金
外形/重量:
180Wx310Dx310H/15kg

冷冻载台
与SEM预留的EDS接口兼容
对有水分样品进行水分蒸发
通过控制盘进行温度设置
设置温度及温度变化实时显示
样品高度可调
可进行远程传输和遥控

EDS系统: BRUKER EDS QUANTAX 100
SDD硅漂移艺术-无需液氮制冷
谱线分辨率优于133eV(MnKa)
检测范围可以从硼B(5)到镅Am(95)
多点分析/先扫描/元素分布图

BSE探测器
四通道固定型
合成物或形貌分析
优异的原子序数分辨率0.1Z(Z=30时)
可选探测器应对普通低电压UVH

应用领域:
◇生命科学 Life Science | ◇印制电路及表面贴装 PCB/SMT | ◇能源产业 Energy | ◇纺织 Textiles |
◇食品工业 Food | ◇半导体 Semiconductor | ◇刑事科学 Forensic | ◇生物学 Biology |
◇化妆品 Cosmetics | ◇材料科学 Materials Science | ◇**科研 Military | ◇环境科学 Enviroment |
| ◇地质勘探 Geo. Prospect | ◇五金矿产 Mining Industry | ◇石油化工 Petro & Chemical | ◇文博考古 Archaeology |
◇健康用品 Healthcare | ◇汽车工业 Automotive | ◇金相分析 Metallographic | ◇失效分析 Failure Analysis |


报价:面议
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S-4800型高分辨场发射扫描电镜(简称S-4800)为日本日立公司于2002年推出的产品。该电镜的电子发射源为冷场,物镜为半浸没式。在高加速电压(15kV)下,S-4800的二次电子图像分辨率为1 nm,这是目前半浸没式冷场发射扫描电镜所能达到的最高水平。该电镜在低加速电压(1kV)下的二次电子图像分辨率为2nm,这有利于观察绝缘或导电性差的样品。S-4800的主要附件为X射线能谱仪。
二手 日立 SEM+EDX 冷场电镜SU8000系列高分辨场发射扫描电镜,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探测器设计上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三个Everhart-Thornley型探测器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多种信号,实现微区的形貌衬度、原子序数衬度、结晶衬度和电位衬度的观测;结合选配的STEM探测器。
日立SU-8010是日立高新技术的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 电子光学系统进行了最优化处理,使得着陆电压在1KV时分辨率较前代机型提高了约20%。另外,最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大,并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了800万倍。除此之外,为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能,还对用户辅助工能进行了强化。
日本电子扫描电镜JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的钨灯丝扫描电镜。颠覆性的前卫性外观设计还特别吸引眼球。操作改为触摸屏控制,简单化,从此操作电镜非常只能化。
扫描电子显微镜主要用于观察物体的表面形貌像,除此意外,如果配备能谱分析系统,在进行获得样品表面像的时候,还可以对样品的某个定点位置进行元素的半定量分析。根据EDS分析出的元素比例,进行拟合处理,可以大概的判断出样品是什么类型的样品。
德国Zeiss 场发射电子显微镜SIGMA 300 ,ZLGemini镜筒,超高的束流稳定性,超高的束流稳定性,zhuo越的低电压性能,In Lens 探测器,磁性材料高分辨观察,ding级X射线分析设计,便越操作系统设计,超大空间,多接口,升级灵活。
德Zeiss 电子束直写仪 Sigma SEM,利用曝光抗蚀剂,采用电子束直接曝光,可在各种衬底材料表面直写各种图形,图形结构(Z小线宽为10nm),是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件,光子晶体,低维半导体等前沿领域。
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