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多点纳米膜厚测量仪 C11295

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产品特点


C11295型多点纳米膜厚测量系统使用光谱相干测量学,用以测量半导体制造过程中的薄膜厚度,以及安装在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量,也可以在膜厚测量中同时测量反射率(透射率)、目标颜色以及暂时变化。


详细介绍

详细参数
型号 C11295-XX*1
可测膜厚范围(玻璃) 20 nm to 100 μm*2
测量可重复性(玻璃) 0.02 nm*3 *4
测量准确性(玻璃) ±0.4 %*4 *5
光源 Xenon light source *6
光斑尺寸 Approx. φ1 mm*4
工作距离 10 mm*4
可测层数 Max. 10 layers
分析 FFT analysis, Fitting analysis
测量时间 19 ms/point*7
光纤连接头 SMA
外部控制功能 Ethernet
电源 AC100 V to AC240 V, 50 Hz/60 Hz
功耗 At 2ch: Approx. 330 VA, at 15ch: Approx. 450 VA
测量波长范围 320 nm to 1000 nm
接口 USB 2.0 (Main unit - Computer) RS-232C (Light source - Computer)
测量点数 ​2 to 15

* 1:-XX表示测量点的数量。
* 2:转换时玻璃的折射率= 1.5。
* 3:测量400nm厚的玻璃膜时的标准偏差(公差)。
* 4:取决于要使用的光学系统或物镜放大倍率。
* 5:测量范围保证在VLSI标准记录保证范围内。
* 6:卤素光源型号为C11295-XXH。
* 7:最短曝光时间。

产品特性

● 多达15点同时测量


  • ● 无参照物工作


  • ● 通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量


  • ● 提醒及警报功能(通过或失败)


  • ● 反射(透射)和光谱测量


  • ● 高速、高准确度


  • ● 实时测量


  • ● 不整平薄膜精确测量


  • ● 分析光学常数(n,k)


  • ● 可外部控制
外形尺寸(单位:mm)


技术资料

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