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英国Oxford 牛津等离子沉积机价格：面议- 品牌： 牛津仪器
- 型号：PlasmaPro 80 ICPCVD
- 产地：英国
PlasmaPro 80 ICPCVD 英国Oxford 牛津等离子沉积机，是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能够确保工艺性能。直开...
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- 品牌： 牛津仪器
- 型号：Plasma Stripper
- 产地：英国
开放式设计，可快速加载和卸载晶圆； 基片放置在石英上，以避免溅射/再沉积电极材料； 通过顶部电极上的“莲蓬头”进气口将气体注入工艺室。
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- 品牌： 德国Sentech
- 型号：RIE SI591
- 产地：德国
ENTECH RIE SI591 平板电容式反应离子刻蚀机，兼容多种氯基或氟基刻蚀工艺；小型化和高度模块化；SENTECH控制软件；Process flexibility工艺灵活性，反应离子刻蚀机 S...
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Depolab 200 等离子体沉积机价格：面议- 品牌： 德国Sentech
- 型号： Depolab 200
- 产地：德国
PECVD等离子体沉积工具Depolab 200将平行板等离子体源设计与直接负载相结合。
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- 品牌： 德国Sentech
- 型号：SI 500 D
- 产地：德国
SI 500D 代表了等离子体增强化学气相沉积介电薄膜、a-Si、SiC和其他材料的前沿。它基于PTSA等离子体源，反应气体分离气体入口，动态控温基片电极，全控真空系统，采用远程现场总线技术的先进森泰...
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- 品牌： 德国Sentech
- 型号：SI 500 PPD
- 产地：德国
SI 500 PPD是一种先进的等离子体增强化学气相沉积介质薄膜的工具，硅、碳化硅和其他材料。它是基于平面电容耦合等离子体源，真空加载锁定， 控温基片电极，可选配低频混频，全控无油真空系统采用先...
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SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统价格：面议- 品牌： 德国Sentech
- 型号：SI 500
- 产地：德国
衬底温度的设置和蚀刻过程的稳定性是高质量蚀刻的要求。采用动态温度控制的ICP基片电极，结合He背面冷却和基片背面温度传感，在-150℃到+400℃的大范围温度范围内，提供了优良的工艺条件。
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- 品牌： 德国Sentech
- 型号：ICP-RIE SI 500
- 产地：德国
衬底温度的设置和蚀刻过程的稳定性是高质量蚀刻的要求。采用动态温度控制的ICP基片电极，结合He背面冷却和基片背面温度传感，在-150℃到+400℃的大范围温度范围内，提供了优良的工艺条件。
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- 品牌： 德国Sentech
- 型号：Etchlab200
- 产地：德国
Etchlab200 德国Sentech 经济型反应离子刻蚀机(可升级),经济型刻蚀机应用范围：硅、硅化物、III-V族化合物半导体、电介质和金属等材料。直接装片型、可升级、在线监控、大尺寸观察窗、远...
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- 品牌： 德国Sentech
- 型号：200 RIE
- 产地：德国
德国Sentech 200 RIE 离子刻蚀与沉积系统 ，将平行板等离子体源设计与直接负载相结合。根据其模块化设计，Etchlab 200可以升级为更大的抽油机、真空负载锁和额外的气体管道。
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德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机价格：面议- 品牌： 德国Sentech
- 型号：德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机 PE-ALD
- 产地：德国
PE-ALD 德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机，是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入前置物实现。等离子增强原子层沉积（P...
- 产品分类
- 品牌分类
- 光刻机/3D打印机/电子束直写仪
- 镀膜沉积系统
- 离子刻蚀与沉积系统
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- 半导体辅助工艺/光刻胶
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