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CMP后晶圆清洗机价格：面议- 品牌： 韩国CTS
- 型号：SWC-4000
- 产地：韩国
产品简介： SWC-4000型CMP后晶圆清洗机是美国NANO MASTER公司开发的一款科研级的高端清洗系统，用于去除晶圆在CMP工艺后晶圆表面污染物、残留物
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韩国CTS工业级CMP化学机械抛机价格：面议- 品牌： 韩国CTS
- 型号：SAERO2K
- 产地：韩国
产品简介韩国CTS公司的SAERO2K型CMP抛光机是一款全自动工业级CMP系统，4寸，6寸，8寸可选，用于半导体工厂及批量量产。产品主要特色- CMP抛光头：采用气囊加载模式，3区压力分区控制，可
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韩国CTS 12寸科研级CMP抛光机价格：面议- 品牌： 韩国CTS
- 型号：AP-300
- 产地：韩国
产品简介 韩国CTS公司的AP300型CMP抛光机是一款科研级的CMP系统，采用CTS公司工业级的设计理念，为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套研究级别的高端
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韩国CTS研发级CMP化学机械抛光机价格：面议- 品牌： 韩国CTS
- 型号：AP-200
- 产地：韩国
产品简介 韩国CTS公司的AP200型CMP抛光机是一款科研级的CMP系统，采用CTS公司工业级的CMP技术，为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套
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- 原子力显微镜
- 晶圆厚度翘曲量测系统
- CMP化学机械抛光机
- 晶圆研磨减薄机
- MEMS研发制造设备
- 半导体光刻工艺设备
- 纳米压印光刻机
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- （德国）德国Osiris
- （德国）德国SENTRONICS
- （德国）德国G&N
- （瑞士）瑞士SCIL
- （瑞士）瑞士idonus
- （韩国）韩国CTS
- （瑞士）瑞士POWATEC
- （美国）美国Lumina
- （德国）德国Intego
- （韩国）韩国Park Systems
- （美国）美国Nanovea
- （美国）美国KLA
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仪企号
倬昊纳米科技（上海）中心
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