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荷兰SCIL科研级纳米压印光刻机

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详细介绍

荷兰SCIL公司

  荷兰SCIL公司是知名的纳米压印设备供应商,是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一,“SCIL基底保形压印光刻”技术,结合了小面积硬压与大面积软压的优势,真正意义上实现了12寸晶圆高质量无基底损伤保形的纳米压印,已成功用于12寸量产线,已经被国际上很多知名fab厂采用。

       “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺,可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于 1 µm 的图案。

  荷兰SCIL公司同时开发了的无机玻璃纳米压印光刻胶,可直接作为功能层使用,可直接省去2个工艺步骤,大大降低了生产成本。

       SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案,并可以帮助客户优化设备、耗材和流程,以实现大批量生产。

SCIL 技术特色

  - 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷(模板复制技术)。

  - 独特的 SCIL 压印工艺可确保<10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。

  - 套刻对齐精度:< 1 µm

  - Sol-gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。

  - Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和(UV)稳定性使其适合作为功能层。

  - 使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。

  - 总体而言,SCIL可将超高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。

  LabSCIL型科研级纳米压印系统简介

        LabSCIL专为有兴趣开发 SCIL 流程和应用程序的大学、研究所和公司的研发实验室开发对于对可用于小批量试生产的工具感兴趣的公司,LabSCIL将是理想的选择。

技术参数

操作

手动放片,纳米压印是全自动的

晶圆尺寸

最大8”,向下兼容

晶圆厚度

0.3 - 2.5 mm

晶圆搬运

托盘手动加载

光刻胶类型

Thermal sol-gel

UV sol-gel

UV organic

压印技术

低力软模基底保形纳米压印

尺寸(WxLxH)

1.8 x 1.4 x 2.2 m

套刻精度

 < 1μm

应用

  纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括:

  - 增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学

      - MicroLED

  - MEMS和3D传感


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