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日本SAMCO RIE等离子蚀刻设备
- 品牌:SAMCO
- 型号: RIE-10NR
- 产地:日本
- 供应商报价: 面议
- 似空科学仪器(上海)有限公司 更新时间:2024-04-09 19:50:43
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反应离子刻蚀机
SAMCO RIE-10NR
简介:
RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能、全自动反应离子刻蚀系统,能够满足非腐蚀性气体化学最苛刻的工艺要求。计算机化触摸屏为工艺配方编程和存储提供了用户友好的界面。该系统可以实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。凭借其圆滑、紧凑的设计,RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。应用:硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、砷化镓、钼、铂、聚酰亚胺等材料的腐蚀失效分析中的选择性层腐蚀。主要功能和优点:1、加工至ø220 mm(ø3“x 5,ø4”x 3,ø8”x 1)。2、高选择性各向异性蚀刻满足严格的工艺要求全自动“一键式”操作。3、自动压力控制,允许独立于气流干泵和系统布局的过程压力精确控制,便于维护。4、于Windows的用户界面,丰富的配方和内置的数据记录功能,是一个可靠和持久的系统,Quan球安装了400多个系统。主要参数规格:基板220 mm(ø3“x 5,ø4”x 3,ø8”x 1)负载开放式上下电极ø240 mm射频功率300瓦@13.56兆赫,自动匹配(500瓦为选项)可切换射频供电电极(阳极/阴极模式)为选项气体管道内部2条MFC控制的气体管道(最多6条)泵干泵(500升/分钟)操作系统触摸屏操作(可选择基于Windows的用户界面)、配方管理端点检测光学发射光谱(OES)作为一种选择尺寸500 mm(宽)x 920 mm(深)x 1501 mm(高)- 产品优势
- RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能、全自动反应离子刻蚀系统,能够满足非腐蚀性气体化学最苛刻的工艺要求。 计算机化触摸屏为工艺配方编程和存储提供了用户友好的界面。该系统可以实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。凭借其圆滑、紧凑的设计,RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。
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