SAMCO RIE等离子蚀刻设备/RIE-10NR

反应离子刻蚀机SAMCO RIE-10NR

简介：

RIE-10NR是一种新型的低成本、

高性能、全自动反应离子刻蚀系统，

能够满足非腐蚀性气体化学最苛刻

的工艺要求。

计算机化触摸屏为工艺配方编

程和存储提供了用户友好的界面。

该系统可以实现精确的侧壁轮

廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。

凭借其圆滑、紧凑的设计，

RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。

应用:

硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、

砷化镓、钼、铂、聚酰亚胺等材料的

腐蚀失效分析中的选择性层腐蚀。

主要功能和优点：

1、加工至ø220 mm（ø3“x 5，ø4”x 3，ø8”x 1）。

2、高选择性各向异性蚀刻满足严格的工艺要求全自动“一键式”操作。

3、自动压力控制，允许独立于气流干泵和系统布局的过程压力精确控制，便于维护。

4、于Windows的用户界面，丰富的配方和内置的数据记录功能，是一个可靠和持久的系统，总的安装了400多个系统。

主要参数规格：

基板

220 mm（ø3“x 5，ø4”x 3，ø8”x 1）

负载

开放式

上下电极

ø240 mm

射频功率

300瓦@13.56兆赫，自动匹配（500瓦为选项）

可切换射频供电电极（阳极/阴极模式）为选项

气体管道

内部2条MFC控制的气体管道（最多6条）

泵

干泵（500升/分钟）

操作系统

触摸屏操作（可选择基于Windows的用户界面）、配方管理

端点检测

光学发射光谱（OES）作为一种选择

尺寸

500 mm（宽）x 920 mm（深）x 1501 mm（高）