MDPinline ingot 光伏测量仪器,快速自动扫描系统
多晶形貌少子寿命测量系统是为高产量生产用户而设计的。对于一个面,以1毫米的分辨率,无接触、无破坏地测量电阻率和少子寿命花费不到一分钟。电阻率和导电类型变化的自动扫描可用于质量控制和监测炉子性能。面可以自动转动,以便测量所有的四个侧面。
MDPinline ingot用于多晶表面形貌电气特性的系统,适用于高生产率的制造环境。总测量时间少于两分钟,分辨率为1毫米,且两面同时进行。
MDPinline ingot系统是全世界可用于多晶硅电气特性的快的测量工具。它被设计用于高产量生制造工厂的研究用途。每块砖都可以在不到两分钟的时间里同时测量两边的所有形貌。测量参数具有1mm分辨率的寿命和导电型等效图以及电阻率线扫描。
该系统包括数据库和统计数据评估,可用于提高良率精确切割位置的自动确定、材料质量监测以及炉子选择和工艺改进。
优势
。测量速度,用于先进的光伏工厂的在线多晶硅表征。用1毫米分辨率测量少子在两块上的寿命。同时测量了导电类型变化的空间分辨测量和电阻率线扫描。
。客户定义的切割标准可以传送到工厂数据库,该数据库允许为下一代光伏工厂进行全自动材料监测。从而实现了材料质量控制,监测炉的性能,以及失效分析。
。特殊的“表面以下”测量技术大大减少了由表面复合造成的数据失真。
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。