中科光电URE-2000/30D 型(定制)紫外光刻机
中科光电紫外光刻机URE-2000/34AL
URE-2000/35 AL 型紫外单面光刻机
URE-2000S/25S 型双面光刻机
URE-2000S/35L(B)型双面光刻机
URE-2000S/35L(A)型紫外双面光刻机
技术参数
。曝光面积:6 英寸
。光 源:紫外 LED
。曝光波长:365nm: 10-25mW/cm
。分辨力:1μm
。正面对准采用双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 CCD+显示器对准,光学合像,光学最 大倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍
物镜三对:4 倍、10 倍、20 倍
目镜三对:4 倍、10 倍、20 倍
。底面面对准:采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像,物镜轴距范围 10mm-148mm
。对准精度:±2μm(双面,片厚 0.8mm),±0.6μm(单面)
。掩模尺寸:3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸
。样片尺寸:2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸,厚度 0.1mm--2mm ,
。曝光方式:定时(倒 计时方式)和定剂量
。照明不均匀性:2.5%( Ф 100mm 范围)19,3%( Ф 150 mm 范围)
。掩模相对于样片运动行程:
X: ±5mm; Y: ±5mm; Thelta:±6 度
。调平接触压力通过传感器保证重复
。数字设定对准间隙和曝光间隙
。具备压印模块接口,也具备接近模块接口
。最 大胶厚:400 μm(SU8 胶,用户提供检测条件)
。光源平行性:2°
外形尺寸:1300mm(长)x900mm(宽) x1800mm(高)
配置
(1)曝光头
。冷光椭球镜
。LED 进口光源
。冷却模块
。光学系统:固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组(79 个透镜)、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2、能力调节器、微光学整形元件
(2)对准工件台
。掩模样片相对运动台
。转动台
。样片调平机构,自动完成
。样片调焦机构,气缸自动调
。承片台 4 个(2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸)
。掩模夹 4 个(3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸)
。掩模抽拉式上下机构
(3)双目双视场对准显微镜(可以选择带 CCD 型,目镜和监视器可同时观测)
。光源、电源
。双目双视场对准显微镜主体
。目镜 3 对(10 倍、16 倍、20 倍,共 6 个)
。物镜 3 对(4 倍、10 倍、20 倍,共 6 个)
。CCD 光学系统(选配件)20
。XYZ 底面对准工件台
(4)底面 CCD 对准系统
。光源、电源
。成像光学系统
。数据采集卡
。CCD
(5)电控系统
。单片机控制系统
。控制柜桌
。计算机系统(21 英寸宽屏液晶显示器)
(6)气动系统
。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等
。电磁阀驱动
。气动仪表
(7)其他附件
。真空泵一台(无油泵)
。空压机一台 (音静泵)
。管道
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IXION 193 SLM 是一款单频全固态激光系统,适用于光学计量、193 nm 步进光学元件校准或高功率 ArF 准分子激光器的带宽控制等应用。
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ASML 光刻机 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸, 基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%,可选配电子束或热舟蒸发源(最多3个),速率控制沉积,可沉积多层薄膜,选用特定目标材料
高真空溅射系统 HV Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达12英寸或200×200毫米, 基板架加热温度最高可达800℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%
超高真空磁控溅射镀膜机 UHV Sputter,• 基板支架加热至 800 °C • 优异的薄膜均匀性小于 ±3% • 磁控溅射源(数量最多 8 个),可选强磁版本
Syskey 高真空热蒸发镀膜机HV Thermal 高真空热蒸发系统可提供的真空环境 用于常见薄膜沉积,包括金属、有机物、钙钛矿和化合物。全自动系统可满足各种应用要求,包括OLED、OPV、OPD等。