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德国Zeiss SEM 电子束直写仪
品牌:德国蔡司
型号:SIGMA
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电子束蒸发镀膜系统
品牌:美国PVD
型号:E-Beam Evaporator System
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美国 那诺-马斯特 NRE-3500 (A) 全自动RIE反应离子刻蚀机
品牌:美国Nano-Master
型号:-NRE-3500(A)RIE
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Allresist 特殊功能光刻胶 SX AR-PC 5000/41
品牌:德国Allresist
型号:AllresistSXAR-PC5000/41
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JEOL场发射电子显微镜JEM-3200FS
品牌:日本电子
型号:JEM-3200FS
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Candela 8420
- 品牌:美国KLA
- 型号: Candela 8420
- 产地:浦东新区
Candela 8420是采用多通道探测技术的表面缺陷检测系统,可以在砷化镓 (GaAs)、磷化铟 (InP)、钽酸锂、铌酸锂、玻璃、蓝宝石等不透明、半透明和透明化合物半导体材料晶圆上提供颗粒、划痕、凹坑、凸起和污渍的检测并根据规则对缺陷进行分类。Candela 8420表面缺陷检测系统采用专利的OSA(光学表面分析仪)架构,同时测量散射强度、表面形貌变化、表面反射和相位变化,对各种关键缺陷(DOI)进行自动检测和分类。在几分钟内实现全表面检测,并生成高分辨率图像和检测报告,输出缺陷分类和分布图。
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蚀刻用等离子体
- 品牌:德国relyon plasma
- 型号: SKYDLIT
- 产地:德国
在大气压下,能够进行有机膜、无机膜的蚀刻工序。
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光刻机 / 紫外曝光机 (Mask Aligner)
- 品牌:韩国ECOPIA
- 型号: M-100
- 产地:韩国
仪器简介:光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)原产国: 韩国,**能做到图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻机,高性价比型号:KCMA-100;又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;ECOPIA为全球领xian的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多企业、研发中心、研究所和高校所采用;以的技术、
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Nanonex光刻机
- 品牌:美国NANONEX
- 型号: Lumina-200
- 产地:美国
Lumina-200 多功能高精度光刻机 Lumina-200高分辨率光刻机加对准系统经过了大量的实时实地验证,质量可靠,性能优越稳定。Lumina系列是一款具有高性能,高可靠性,高性价比,兼具接触和近程光刻的高分辨率,高对准精度全功能光刻机和模板基板对准机。Lumina系列在电子,光电子,MEMS,生物芯片等诸多领域都有广泛应用。Lumina-200具有的用户界面,高精度的机械平台,高精度光学,紧凑的系统设计。 主要特点: 高光刻分辨率
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纳米压印+光刻对准一体机
- 品牌:美国NANONEX
- 型号: NX-2600
- 产地:美国
NX-2600 多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统 NX-2600整片基板带对准可多层次纳米压印加高分辨率光刻系统经过了大量的实时实地验证,质量可靠,性能优越稳定。具备全部压印模式:热固化、紫外固化和压印。基于独特ZG保护的Nanonex气垫软压技术(ACP),不论模版或基板背面粗糙程度如何,或是模版或基板表面波浪和弧形结构,NX-2600均可对其校正补偿从而获得无与伦比的压印均匀性, ACP消除了基板与模版之间侧向偏移,有效地延长了模版使用寿命。通过微小热
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Ushio 手动光刻机
- 品牌:日本Ushio
- 型号: UPE-1102LU
- 产地:日本
Ushio手动光刻设备UPE-1102LU主要应用于LED芯片(蓝白光,红黄光)研发和生产当中,并且对全自动生产线所产生的LED芯片破片有辅助生产和处理的功能。同时也能对应一些较为特殊材质的芯片如:GaAs,SiO2的研发及生产。 特点: *可调整光刻间距,最大限度的避免光刻板被污染。 *操作简易,任何操作人员都能在短时间内熟练掌握。 *产能高于一般同行业竞争对手,最高可达80WPH; *可调整光刻时间,调整光强,并可根据所需累计光量值自动补偿光刻时间(无
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ATM Kristall 680 全自动电解抛光蚀刻机
- 品牌:德国ATM
- 型号: Kristall 680
- 产地:德国
KRISTALL 680是一款通过触屏界面直观操作的全自动电解抛光蚀刻。具有独立的抛光蚀刻单元和控制单元,并可以在通风橱中使用。无需知晓试样组织情况,通过扫描功能即可显示材料的电流-电压特征曲线。将电解液储存在1升体积的独立电解槽中进行封盖储存,工作时通过整体更换的方式来更换电解液,极大地方便了抛光蚀刻单元的操作。设备的清洁可以采用水,通过清洗程序完成。产品特色 全自动电化学抛光/蚀刻装置 ATM软件控制的触屏显示 可储存多达200个通过密码保护的程序 实时电流电压曲线 输出电压和过程持续时间可调
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多功能电子束曝光机PIONEER Two
- 品牌:德国Raith
- 型号: PIONEER Two
- 产地:德国
PIONEER Two将专业电子束曝光设备和电子成像系统所有的先进性能,融合成一套独立的成套系统。多功能性、稳定性、用户友好性操作,使PIONEER Two系统适合于不仅追求纳米结构的制作及再观察功能,且需要材料及生命科学领域中对化学成分及结构进行分析的所有用户。
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电子束直写系统 EBPG5150
- 品牌:德国Raith
- 型号: EBPG5150
- 产地:德国
电子束直写系统 EBPG5150,自动化和高速度的电子束直写技术
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超高分辨率的电子束光刻 CABL-UH 系列
- 品牌:德国Raith
- 型号: CABL-UH
- 产地:德国
超高分辨率的电子束光刻 CABL-UH 系列的型号包括: CABL-UH90 (90keV) 、CABL-UH110 (110keV) 、CABL-UH130 (130keV)
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电子束光刻 CABL-9000C
- 品牌:德国Raith
- 型号: CABL-9000C
- 产地:德国
电子束光刻 CABL-9000C 系列最小线宽可达 8nm,最小束斑直径 2nm,套刻精度 20nm(mean+2σ),拼接精度 20nm(mean+2σ)。
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电子束光刻系统
- 品牌:德国Raith
- 型号: Electron Beam Lithography
- 产地:德国
日本 CRESTEC 是世界上制造专业电子束光刻设备的知名厂商之一,其制造的电子束光刻机以其独特的专业技术,超高的电子束稳定性,电子束定位精度以及拼接套刻精度赢得了世界上著名科研机构以及半导体公司的青睐。其中 CABL 系列更是世界上最优秀的产品之一。
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电子束蒸发镀膜机 NEE-4000(M)电子束蒸发系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NEE-4000(M)
- 产地:美国
NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置,样品台位于主腔体,二级腔体则用于安置电子束源。两个腔体之间的门阀可以作为预真空锁,使得电子束源腔体保持真空的情况下,实现基片通过主腔体放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。自动装/卸载基片可通过第三方的预真空锁实现。通过PC计算机控制,系统可以提供多电子束源的共蒸发能力,以及对组分或组分梯度进行编程的能力。
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JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统
- 品牌:日本电子
- 型号: JBX-8100FS
- 产地:日本
zuixin高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地面积和安装空间,并且更加绿色节能。
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JBX-6300FS 电子束光刻系统
- 品牌:日本电子
- 型号: JBX-6300FS
- 产地:日本
JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形。 此外,该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度,性能比优越。 利用zui细电子束束斑(实测值直径≦2.9nm)可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。
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JBX-9500FS 电子束光刻系统
- 品牌:日本电子
- 型号: JBX-9500FS
- 产地:日本
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zui高水平的产出量和定位精度,zuida能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。
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JBX-3200MV 电子束光刻系统
- 品牌:日本电子
- 型号: JBX-3200MV
- 产地:日本
JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zuixian极n的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。
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JBX-3050MV 电子束光刻系统
- 品牌:日本电子
- 型号: JBX-3050MV
- 产地:日本
JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zuixian极n的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。
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USHIO自动光刻设备
- 品牌:日本Ushio
- 型号: UPE-1255ATL
- 产地:日本
UPE-1255ATL是被广泛应用于LED芯片研发和大批量生产的一款自动光刻设备 特点: *具有较高的设备稳定性。 *具有较高的生产对应能力和处理速度 每小时可达200WPH以上 *搭载USHIO自主研发的光学系统,在提高照度的同时也提高了光照均一性。 *具有较好的对位识别系统,提高并完善了对位成功率,进一步提高了生产效率。 *产品生产切换简易。 用途: *LED芯片生产工艺的大批量生产。
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USHIO投影式全自动光刻设备
- 品牌:日本Ushio
- 型号: UX-4系列
- 产地:日本
UX-4系列全自动投影式光刻设备主要运用于大尺寸的LED芯片生产和研发。同时又可以运用于半导体MEMS芯片的新品开发和大批量生产。 特点: *最大限度的提高生产良率。(焦点深度可达±50um) *光刻板和Wafer非接触,光罩板可以反复利用无需对光罩板进行清洗和更换。 *最大可对应到8英寸芯片的生产,1:1一次性曝光。 *设备利用率可达97%以上 *真正意义上的全自动,光罩板无需人工装载。 *产品生产切换简易。 *
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高压实验室挤压机Squeezer
- 品牌:日本电子
- 型号: 312-B
- 产地:日本
312-B 高压实验室挤压机Squeezer 312-B 高压实验室挤压机适合研究实际生产条件下使用的高压型砂以及回弹力和剥离力研究。将 2x2 英寸直径的砂样和小模具挤压到选定的压力或密度。当配备可选附件 No. 312B-44 时,它将挤压 1 1/8 英寸直径。 312-B 高压实验室挤压机 High Pressure Lab Squeezer该装置非常适合研究实际生产条件下使用的高压型砂以及回弹力和剥离力研究。手动液压机将 2x2 英寸直径的砂样和小模具挤压到选定的压力或密
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上海伯东Hakuto 离子蚀刻机,离子刻蚀机
- 品牌:
- 型号: IBE
- 产地:日本
伯东公司日本原装设计制造离子蚀刻机 IBE. 提供微米级刻蚀, 均匀性: ≤±5%, 满足所有材料的刻蚀, 即使对磁性材料, 黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 这些难刻蚀的材料也能提供蚀刻. 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料
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上海伯东离子蚀刻机,离子蚀刻机
- 品牌:
- 型号: 4 IBE
- 产地:日本
伯东公司日本原装进口小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究, 干式制程的微细加工装置, 特别适用于磁性材料, 金, 铂及各种合金的铣削加工.
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上海伯东离子蚀刻机,离子刻蚀机
- 品牌:
- 型号: 7.5 IBE
- 产地:德国
伯东公司日本原装进口小型离子蚀刻机, 适用于科研院所, 实验室研究, 干式制程的微细加工装置, 特别适用于磁性材料, 金, 铂及各种合金的铣削加工.
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上海伯东NS离子蚀刻机,离子刻蚀机
- 品牌:
- 型号: 10 IBE
- 产地:日本
上海伯东日本原装进口适合小规模量产使用和实验室研究的离子蚀刻机, 一般通氩气 Ar, 内部使用美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 产生轰击离子; 终点检出器采用 Pfeiffer 残余质谱监测当前气体成分, 判断刻蚀情况.
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ATM 手动砂轮切割机 Brillant 230
- 品牌:德国ATM
- 型号: Brillant 230
- 产地:德国
TM BRILLANT 230 手动砂轮切割机是一款湿式砂轮切割机。它具有精密的动态范围,并且手动控制切割轮移动可切割直径达Ø110MM的样品。宽敞的切割室允许使用不同的夹具。坚固的铝制设计以及右侧和左侧的开口可用于切割连续的较长零件。
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Nikon I12光刻机
- 品牌:尼康
- 型号: Nikon I12
- 产地:日本
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Nikon G6光刻机
- 品牌:尼康
- 型号: Nikon G6
- 产地:日本
Nikon G6光刻机二手翻新设备了解更多请访问公司**:www. lieth.com.cn
- 电子束刻蚀系统
- 仪器网导购专场为您提供电子束刻蚀系统功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选电子束刻蚀系统的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。