NANO-MASTER的NOC-4000光学涂覆系统在一个腔体中提供了先进的光学元件原子级清洗和刻蚀，之后自动把样片传输到第二个腔体进行光学涂覆，这个过程无需中断真空。系统也可以独立使用任一个腔体，每一个带有自己自动的样片上下片功能。
另外，除了这两种系统的配置之外，任意两套NANO-MASTER的系统都可以实现类似的双腔传输应用，可以实现两个腔室的互相传送，实现不间断真空的前后工序。
特点：
射频偏压样品台
膜厚监控仪
极限真空可达6x10-7Torr
计算机全自动控制，高精度高重复性
高质量薄膜
原子级清洗表面
原子清洗和打磨
LabView友好用户界面
自动上下片
两个腔体之间自动传送
EMO保护及安全联锁
46”x44”的占地面积
应用：
光学涂覆：溅射和离子束辅助沉积
反应离子束刻蚀清洗
离子铣
红外涂覆
表面处理
选配：
向下/向上溅射
共溅射
DC，RF和脉冲直流电源
离子束辅助沉积
电子束蒸镀和等离子源
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NSC-3500全自动磁控溅射镀膜机概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3500带有14”立方形不锈钢腔体，3个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。
NSC-3500全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。NSC-3500带有14”立方形不锈钢腔体，3个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。
NDT-4000热真空试验箱：NDT-4000是NANO-MASTER进口热真空系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统Z通常的应用之一是太空模拟。
空间环境模拟试验设备：NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统Z通常的应用之一是太空模拟。
热真空环境模拟试验设备：NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统Z通常的应用之一是太空模拟。
NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统：是一款自动放片/取片，并且工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。
NIE-3000离子束清洗系统：是一款手动放片/取片，但工艺过程为全自动计算机控制的台式离子束刻蚀系统，可以用于表面清洗、表面处理、离子铣等。
LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统：Nano-Master兆声大基片湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离，以及湿法刻蚀。该系统为全自动机械手上下载片，可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。
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