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SENTECH SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统
品牌:德国Sentech
型号: SI 500
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Beneq Transform® 沉积系统
品牌:深圳科时达
型号: Transform®
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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
品牌:美国Forge Nano
型号:PANDORA
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等离子体辅助原子层沉积系统 PEALD
品牌:美国ANRIC
型号:AT-400
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美NANO-MASTER电子束蒸镀系统 NEE-4000
品牌:美国Nano-Master
型号: NEE-4000
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等离子增强型原子层沉积设备
- 品牌:北京华测
- 型号: Beneq
- 产地:海淀区
等离子增强型原子层沉积设备:等离子体增强原子层沉积(PE-ALD)是对ALD技术的扩展,通过等离子体的引入,产生大量活性自由基,增强了前驱体物质的反应活性,从而拓展了ALD对前驱源的选择范围和应用要求,缩短了反应周期的时间,等离子增强型原子层沉积设备同时也降低了对样品沉积温度的要求,可以实现低温甚至常温沉积,特别适合于对温度敏感材料和柔性材料上的薄膜沉积。
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原子层沉积系统
- 品牌:北京中科艾科米
- 型号: ALD-V301
- 产地:怀柔区
主要特点 真空反应腔工作温度高达400℃ PID自动控温,带模糊算法自整定 复杂管气路可zui多具备八种前驱体、两路氧化还原气路和三路载气 满足特殊样品(粉末)要求 适合低蒸气压固态源的高温鼓泡器设计,有利于提高反应效率和重复性 反应过程可自行编程,实现不同类型ALD样品生长 全金属密封,适用于腐蚀性反应 实时测控气体流量和监测真空度 在线原位分析气体成分 自带臭氧发生器,反应残留物热分解装置 互联版可与超高真空系统互联,并兼容MBE标准旗型样品托 系统可定制和扩展
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烘烤控制器
- 品牌:北京中科艾科米
- 型号: BC206
- 产地:怀柔区
主要特点 7” LCD触摸显示 6路输出通道和温度测量 带自整定的PID自控算法 温度测量:K型热偶 温度模式和电压模式可切换 远程控制及诊断 多种接口类型:USB,Ethernet U盘一键固件升级
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粉体包裹原子层沉积系统
- 品牌:深圳原速
- 型号: PA
- 产地:深圳
真空测量采用多真空压力计组合方式,工艺数据更真实,更迅速,更精确,为工艺人员提供井真的数据采集来源,为工艺的可重复性提供了可靠的保障
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手套箱集成原子层沉积系统
- 品牌:深圳原速
- 型号: Glove Box Integrated
- 产地:深圳
真空测量采用双真空压力计组合方式,工艺数据更真实,更迅速,更精确,为工艺人员提供井真的数据采集来源,为工艺的可重复性提供了可靠的保障。
- 原子层沉积系统
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