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P-300S 生产线型原子层沉积机
品牌:芬兰Picosun
型号:P-300S
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P-300B Advanced ALD 高 级原子沉积机
品牌:芬兰Picosun
型号:P-300B Advanced
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德国Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积
品牌:德国Sentech
型号:PE-ALD
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芬兰Picosun ALD原子层沉积系统
品牌:芬兰Picosun
型号:Picosun ALD
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Beneq Genesis ALD原子层沉积系统
品牌:深圳科时达
型号:Genesis ALD
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PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300B
- 产地:芬兰
PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD,基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次(标准间距),200mm晶圆25+2片/批次(标准间距)
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PICOSUN 原子层沉积机 P-300S Pro ALD
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300S
- 产地:芬兰
PICOSUN 原子层沉积机 P-300S Pro ALD ,最 大300mm晶圆/单片,25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现 ,
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PICOSUN 原子沉积机 P-300F ,P-300BV
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: PICOSUN P-300F ,P-300BV
- 产地:芬兰
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300F Pro ALD PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300BV Pro ALD 。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 (标准间距) 。150 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距) 。100 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)
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PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-200S
- 产地:芬兰
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD ,由两台PICOSUN P-200S ALD设备组成,带等离子体源PICOPLASMA。
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芬兰 Picosun R-200 高级型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: Picosun R-200
- 产地:芬兰
。气动升降(手动装载) 。预真空室安装磁力操作机械手(Load lock ) 。半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现
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PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-1000 Pro
- 产地:芬兰
PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机技术参数:衬底尺寸和类型 。156 mm x 156 mm硅片800~1000片/批次(双面/背对背) 。高达400 mm x 600 mm玻璃基板30~50片/批次(双面/背对背) 。大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬 币,医疗植入部件,机械部件等) 。多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品工艺温度: 50 - 500 °C基片传送选件: 。气动升降(手动装载,带叉车
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P-300 Advanced ALD 高 级型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300 Advanced
- 产地:芬兰
PICOSUN P-300 Advanced ALD 高 级型原子层沉积机衬底尺寸和类型: 。156 mm x 156 mm硅片50~100片/批次(双面/背对背) 。高达300 mm x 300 mm玻璃基板10~20片/批次(双面/背对背) 。大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬 币,医疗植入部件,机械部件等) 。粉末与颗粒 。Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm 。多孔,通孔,与高深宽
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P-300B Advanced ALD 高 级原子沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300B Advanced
- 产地:芬兰
液态,固态,气态,臭氧源; 前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务; 4根独立源管线,zui多加载6个前驱体源。
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芬兰 PICOSUN R-200标准型ALD
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: R-200标准型
- 产地:芬兰
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极 佳的均匀性,包括zui具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。
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P-200S Pro ALD 生产型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-200S Pro
- 产地:芬兰
PICOSUN P-200S Pro ALD 生产型原子层沉积机 技术参数衬底尺寸和类型: 。50 – 200 mm /单片 。156 mm x 156 mm 太阳能硅片 。150 mm x 150 mm 显示面板工艺温度: 50 - 500 °C , 可选更高温度基片传送选件 : 。气动升降(手动装载) 。半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现 。25片晶圆盒对盒式全自动装
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P-300F,P-300BV 生产型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300F,P-300BV
- 产地:芬兰
PICOSUN P-300F Pro ALDPICOSUN P-300BV Pro ALD技术参数 。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 (标准间距) 。150 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距) 。100 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)工艺温度: 50 - 300 °C基片传送选件:。 P-300F Pro: 27片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICO
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P-300S 生产线型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300S
- 产地:芬兰
半自动装载,用单片Load lock与磁力操纵杆实现; 25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现。
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芬兰Picosun ALD原子层沉积系统
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: Picosun ALD
- 产地:芬兰
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300高级版
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: PICOSUN ALD R-300
- 产地:芬兰
Picosun™ 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作,也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: PICOSUN ALD R-200
- 产地:芬兰
PICOSUN®R-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件,显示器,LED,激光和3D对象,例如透镜,光学器件,珠宝,
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: PICOSU NALD R-200
- 产地:芬兰
PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件,显示器,LED,激光和3D对象,例如透镜,光学器件,珠宝,硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场领dao者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的shou选工具。
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