德国ThetaMetrisis FR-ES精简薄膜厚度测量特性分析系统
FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Mini 膜厚测量仪
德国ThetaMetrisis FR-Pro 膜厚测量仪
德国TheMetrisis FR-Scanner自动化超高速精准薄膜厚度测量仪
气体电离探测器(GED)能够测量气体中金属颗粒的 ppq 水平。

该系统最初是为利用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)分析环境空气中的金属颗粒而开发的。现在它已扩展到半导体行业使用的特殊气体。
ICP-MS 是测定各种样品中金属元素最灵敏的分析技术之一。由于水样基本上是通过雾化器和喷淋室引入氩等离子体的,气体分析需要耗时的样品前处理,如过滤和鼓泡。此外,测定半导体气体中 ppt 或亚 ppt 水平的杂质极其困难。
如果气体能够直接引入氩等离子体,金属颗粒无需预处理即可进行分析,且灵敏度高得多。然而,电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)在将其他气体引入等离子体方面存在局限性,因为很难维持等离子体。
气体交换装置(GED)使用一种特殊的膜,能够与氩气交换其他气体。气体交换效率超过 99.99%。当样品气体中含有颗粒物时,样品气体被氩气交换,颗粒物在 GED 出口随氩气气流流出,可直接引入电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)的氩等离子体中进行分析。
因此,金属杂质的单个 ppq 级别可以直接进行分析。

气体扩散增强(GED)的原理基于道尔顿定律和格雷厄姆定律。如上所示,将样品气体引入膜管内侧,将氩气引入膜管外侧。由于膜管内样品气体的分压高于外侧,样品气体向膜管外侧扩散。另一方面,膜管外侧氩气的分压高于内侧,氩气向膜管内侧扩散。氩气扫气流量远高于样品气体流量,样品气体完全被氩气取代(>99.99%),而颗粒不会穿过膜管,而是留在膜管内。因此,颗粒在氩气流中从 GED 中出来,被引入到 ICP-MS 的氩气等离子体中进行分析。
主要应用:
u环境
在正常环境空气中,铅的含量为 30 - 60 纳克/立方米,铀的含量为 0.1 - 0.3 纳克/立方米。如图 2 所示,在每个点 10 毫秒的积分时间内检测到许多 208Pb 粒子。
如图 3 所示,还检测到了环境空气中的 235U 和 238U,积分时间分别为 10 毫秒和 10 秒。较短的积分时间可以检测单个粒子,较长的积分时间可以累积粒子,从而进行准确的定量分析。
235U 和 238U 的自然丰度分别为 0.72%和 99.27%,并且积分时间较长的结果显示出良好的同位素比值一致性。
图 4 展示了 56Fe 粒子的结果
清洁内部的分析房间。外部清洁房间展示大量的 56Fe 粒子


半导体
对半导体工业中使用的 NH3 气体进行了分析。图5展示了使用和不使用滤波器的1毫秒积分时间的瞬态信号。从左侧可以看出,没有滤波器时,检测到许多粒子,如铜、锌和铅。检测到的铜浓度约为0.03ppm(重量)。




普通教育发展(GED)课程

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Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter,灵活的基板尺寸,最大可达6英寸,基板架加热温度最高可达500℃,出色的薄膜均匀性,误差小于±3%, 最多可配备5个6英寸磁控溅射源(可选配3或4个),支持射频、直流或脉冲直流电源,最多可支持3条气体管路,支持顺序沉积和共沉积。
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