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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
主营产品:光刻机/3D打印机,镀膜沉积机,离子刻蚀与沉积系统,半导能检测仪器,UV清洗设备
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JEOL 场发射冷冻电子显微镜JEM-Z200FSC
  • 品牌:日本电子
  • 型号:JEM-Z200FSC
  • 产地:亚洲 日本
  • JEM-Z200FSC 场发射冷冻电子显微镜,标配冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器(Ω能量过滤器)、液氮冷却样品台和12位自动样品更换系统。新设计的Ω能量过滤器与无孔位相板的完美组合,进一步提高了生物...

JEOL原子级分辨率透射电子显微镜JEM-ARM200F NEOARM
  • 品牌:日本电子
  • 型号:JEM-ARM200F NEOARM
  • 产地:亚洲 日本
  • JEM-ARM200F NEOARM 原子级分辨率透射电子显微镜, 标配了日本电子独自开发的冷场发射电子枪(Cold-FEG)和全新的高阶球差校正器(ASCOR)。无论是在200kV的高加速电压...

JEOL场发射冷冻电子显微镜JEM-Z300FSC
  • 品牌:日本电子
  • 型号:JEM-Z300FSC
  • 产地:亚洲 日本
  • JEOL场发射冷冻电子显微镜JEM-Z300FSC (CRYO ARM™ 300)配备了冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器(Ω能量过滤器)、侧插式液氮冷却样品台和自动样品交换系统,能够在冷冻低温下观察生...

JEOL 超高压透射电子显微镜JEM-1000
  • 品牌:日本电子
  • 型号:JEM-1000
  • 产地:亚洲 日本
  • JEM-1000 超高压透射电子显微镜,由于超高压透射电子显微镜的加速电压很高电子波长很短,即使增大物镜极靴之间的间隙,也能获得高分辨率的图像。此外,电子束具有很强的穿透能力,即使厚样品也能观察到清晰...

JEOL场发射电子探针显微分析仪JXA-iHP200F
  • 品牌:日本电子
  • 型号:JXA-iHP200F
  • 产地:亚洲 日本
  • JXA-iHP200F 场发射电子探针显微分析仪, 在保持高局部微量元素分析性能的同时,追求每个人都能简单快速地使用好仪器。该仪器能更加有效地进行观察分析和操作,是更先进的一体化集成FE-EPMA。

德国Netzsch差示扫描量热仪 DSC 214 Polyma
  • 品牌:德国耐驰
  • 型号:DSC 214 Polym
  • 产地:欧洲 德国
  • 德国Netzsch差示扫描量热仪 DSC 214 Polyma, 特别适用于聚合物热分析的智能系统,该款仪器具有多种新特色,尤其为高分子领域的用户提供了及其便捷、强大的方案。

RION液体光学颗粒度仪 KS-42C
  • 品牌:日本理音
  • 型号:KS-42C
  • 产地:亚洲 日本
  • 液体光学颗粒度仪 KS-42C,宽广的测试范围,可测试 0.5~20um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。

Nano-Master离子束刻蚀系统NIE-4000
  • 品牌:美国Nano-Master
  • 型号:NIE-4000
  • 产地:美洲 美国
  • NIE-4000 离子束刻蚀系统,NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统,通过加速的 Ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。

俄罗斯Optosystem准分子激光器CL 7500
  • 品牌:俄罗斯Optosystem
  • 型号:CL 7500
  • 产地:欧洲 俄罗斯
  • 俄罗斯Optosystem准分子激光器:CL 7500,MOPA激光系统(主振荡器功率放大器),由两个激光器CL7020或CL7050基于单光平台组成, 应用:布拉格光栅,激光诱导荧光技术.

EVG紫外纳米压印机 HERCULES NIL
  • 品牌:奥地利EVG
  • 型号: HERCULES NIL
  • 产地:欧洲 奥地利
  • EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统,是EVG的NIL产品组合的Z 新成员。 HERCULES NIL基于模块化平台,在单个平台上将清洗模块,抗蚀剂涂层模块和烘烤...

EVG720紫外纳米压印
EVG720紫外纳米压印
价格:面议
  • 品牌:奥地利EVG
  • 型号:EVG720
  • 产地:欧洲 奥地利
  • EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。

OAI  UV  Led 光源
OAI UV Led 光源
价格:面议
  • 品牌:美国OAI
  • 型号:OAI UV Led
  • 产地:美洲 美国
  • OAI UV Led 光源-对准和均匀,适用于高要求的光刻应用。

德国海德堡 激光直写光刻机DWL 66+
  • 品牌:德国海德堡
  • 型号:DWL 66+
  • 产地:欧洲 德国
  • DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器, 具有多种直写模块,实现不同精度直写需求, 能于结构上进行灰度曝光

德国UnitemP真空快速退火炉RTP-150
  • 品牌:德国UniTemp
  • 型号:RTP-150
  • 产地:欧洲 德国
  • 德国UnitemP真空快速退火炉RTP-150, 单晶圆,150mm,Z快升温速率可达150K/s

德国MBE-Komponenten 分子束外延系统OCTOPLUS 400
  • 品牌:德国MBE-Komponenten
  • 型号:OCTOPLUS 400
  • 产地:欧洲 德国
  • OCTOPLUS 400 是一款通用型MBE系统,非常适合于III/V族, II/VI族,及其他复合半导体材料应用。兼容2-4英寸标准晶片。竖直分割式腔体设计,可以装配各种源炉,实现不同材料分子束外延...

Nikon 尼康 光刻机 NSR-4425i
  • 品牌:日本尼康
  • 型号:NSR-4425i
  • 产地:亚洲 日本
  • Nikon 尼康 光刻机 NSR-4425i