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那诺—马斯特中国有限公司
主营产品:薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等
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Cleaning清洗去胶系统

 
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晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统 那诺-马斯特
  • 品牌:美国那诺-马斯特
  • 型号:LSC-4000
  • 产地:美洲 美国
  • Nano-Master兆声大基片湿法刻蚀系统提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离。它是集成式的一体化系统,可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥...

 晶圆清洗设备 兆声清洗机 那诺-马斯特
  • 品牌:美国那诺-马斯特
  • 型号:SWC系列/LSC系列
  • 产地:美洲 美国
  • Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗、兆声辅助下光刻胶剥离,以及湿法刻蚀。该系统配套机械手,也可以升级为多系统的集成架构。它可以在一个工艺步骤中包含了的无...

等离子清洗机 NPC-3000等离子去胶机(刻蚀机) 那诺-马斯特
  • 品牌:美国那诺-马斯特
  • 型号:NPC-3000
  • 产地:美洲 美国
  • NANO-MASTER 等离子去胶和等离子清洗机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理,具有广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离子源,加热或不...