光刻机/3D打印机/电子束直写仪

SUSS苏斯，EVG, OAI公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机，目前得到业界的广泛认同，该系列光刻机曝光系统的曝光灯，主要是由德国欧司朗及日本牛尾公司生产的曝光灯进行配套供应。欧司朗/牛尾曝光灯系...

顶级自动化功能、测量过程无需激光调节、即插即用式针尖更换方案、快速自动进针， · 针对高深宽比的沟槽或孔洞结构，采用特制的长针尖提供微纳米结构的三维形貌准确测量， · 可升级至多针尖并行...

全自动双面紫外皮秒激光晶圆划线机，是晶元制程中不可缺少的一道工序，取代原有的工序（匀胶、曝光、显影）

绿光纳秒钻孔设备，用进口绿光激光器，光束质量好，加工速度快。

全自动双X/Y平台玻璃切割机，用红外皮秒激光器，保证完 美光束质量，光斑细，切割精度高。

蓝宝石精密切割裂片机，采用红外皮秒激光器，保证完 美光束质量，光斑细，切割精度高。

玻璃切割倒角切割机Glass Chamfering Machine，可兼容振镜和聚焦头两种裂片方式，兼容多款国内外激光器型号，可添加CCD定位等功能模块，高速XY运动平台，大程度提升加工速度，可对玻璃...

脆材标准切割裂片机，采用红外皮秒激光器，保证完 美光束质量，光斑细，切割精度高。

俄罗斯Optosystem准分子激光器：CL 7500,MOPA激光系统(主振荡器功率放大器),由两个激光器CL7020或CL7050基于单光平台组成, 应用：布拉格光栅,激光诱导荧光技术.

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统，是EVG的NIL产品组合的最 新成员。 HERCULES NIL基于模块化平台，在单个平台上将清洗模块，抗蚀剂涂层模块和烘烤...

EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。

OAI UV Led 光源-对准和均匀，适用于高要求的光刻应用。

DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器, 具有多种直写模块，实现不同精度直写需求, 能于结构上进行灰度曝光

Nikon 尼康 光刻机 NSR-4425i

曝光分辨率： 0.8μm-1μm , 套准精度：±0.8-1μm

双面对准单面曝光