光刻机/3D打印机/电子束直写仪

OAI Model 800E 型掩模对准系统，各种光谱范围选项:Hg灯:G(436nm),H(405nm)， I(365nm)和310nm线，Hg-Xe灯:260nm和220nm

OAI 掩膜光刻机 Model 6000型，高吞吐量180 wph，灵活处理基板从2“平方到12”平方

OAI的面板级掩模光刻机 Model 6020S, 用于FOPLP型号6020S -半自动化或自动化,实现500mm x 500mm晶圆尺寸的FO-PLP加工.

URE-2000/35AL 型紫外单面光刻机,曝光面积：150mm×150mm；分辨力：1.0μm（365nm 波长）,对准精度：≤±0.8μm

URE-2000S/25S 型双面光刻机，曝光面积：4 英寸（或 6 英寸），正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学ZD倍数 400 倍，...

URE-2000S/35L（B）型双面光刻机, 曝光面积：4 英寸, 正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学Z 大倍数 400 倍，...

URE-2000S/35L（A）型紫外双面光刻机，曝光面积：6 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学ZD倍数 400 倍，光学+电...

URE-2000S/A 型紫外双面光刻机,曝光面积：6 英寸，对准精度：± 2μm （双面,片厚 0.8mm），± 0.8μm （单面）

URE-2000S/A8 型紫外双面光刻机, 曝光面积：8 英寸, 曝光波长：365nm： 15mW/cm，405nm：15-30mW/cm2, 对准精度：±2 μm （双面,片厚 0.8mm）±...

URE-2000/30 型紫外单面光刻机,高倍率双目双视场显微镜和 22 英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，并提供 USB 输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和方便存储

URE-2000/35AL 型紫外单面光刻机,曝光面积：150mm×150mm；分辨力：1.0μm（365nm 波长）,对准精度：≤±0.8μm

URE-2000/35A 型紫外单面光刻机,,非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，全自动）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，...

URE-2000B 型紫外单面光刻机，曝光面积：100mmX100mm，分辨力：0.8μm（胶厚 2μm 的正胶）

URE-2000S/25 型紫外双面光刻机，曝光面积：4 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学ZD倍数 400 倍，光学+电子放大...

URE-2000S/25A 紫外双面光刻机，曝光面积：6 英寸，分辨力：1 μm

URE-2000/25 型紫外单面光刻机，曝光面积：4 英寸,分辨力：1 μm（胶厚 2 μm的正胶）,对准精度：± 0.8μm