光刻机/3D打印机/电子束直写仪

NIKON步进式投影光刻机,分辨率:0.35μm， 套刻精度:< 75nm, 十字线对准:5:1 ， 150毫米* 150毫米

Nikon NSR 1755i7B 6英寸分步重复光刻机，可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圆高精度投影曝光，曝光精度可达500nm。

Nikon NSR-1755G7适用于分辨率不低于0.65μm的大规模集成电路工艺器件量产的G-line步进式光刻机。

Nikon NSR-I12广泛应用于生产线，是6英寸，8英寸等主力I线生产机台，适用于I线光刻胶的曝光，操作简单，曝光精度准，解析力最高可达0.35UM （350NM）

尼康光刻机 NSR-i12, NSR-1755G7,NSR-1755i7B,步进式投影光刻机，NSR 204,NSR 204B, NSR 1505 G6E.

Keyence 远心激光刻印机MD-T系列，配备远心镜头，超精细激光刻印机。

EVG620 单面/双面光刻机(带有压印功能），EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准...

奥地利EVG键合机：EVG510，是一款半自动晶圆键合系统，可以处理最大200mm的晶圆，非常适合于研发和小批量生产。EVG510提供了除上料和下料外的全自动工艺处理过程，并配备了业界公认的最优异的加...

EVG610是一款非常灵活的适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理最大200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键...

EVG520IS是一款设计用于小批量生产的半自动晶圆键合系统， 最大硅片允许尺寸为200mm。集EVG最新技术及客户反馈基础上设计的EVG520IS，配备了EVG公司的专利吸盘设计---这种吸盘可以提...

奥地利SmartNIL紫外纳米压印机EVG7200，LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光...

Nikon步进式光刻机，广泛应用于生产线，操作简单，曝光精度准，解析力最高可达0.35UM （350NM）

CL 7308系列主要特点： 脉冲持续时间>180 ns 功率稳定运行模式 闸流管开关 内置的能量检测器 预混合供气，使用简单 计算机控制

CL 7000主要特点特点： 陶瓷放电激光腔设计，长寿命 激光腔，电子系统一体化设计 功率稳定运行模式 预混合供气，使用简单 计算机控制

CL 5000系列主要特点： 陶瓷放电激光腔设计，长寿命 激光腔，电子系统一体化设计 功率稳定运行模式 预混合供气，使用简单 计算机控制

CLS 5000主要特点： 非常高的光束指向稳定性 高重复频率 能量稳定性好 设计紧凑 内置能量控制 带磁转换发生器