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OAI 6000 FSA 全自动上侧后侧光刻机价格：面议- 品牌：美国OAI
- 型号：OAI 6000 FSA
- 产地：美洲 美国
•全自动 •侧面对齐 •可选：底部对齐 UV到NUV •集群工具集成 •自定义软件
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OAI 800型光学正面和背面光刻机系统价格：面议- 品牌：美国OAI
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Nikon NSR-I12 I线步进式光刻机价格：面议- 品牌：日本尼康
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瑞士NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机价格：面议- 品牌：瑞士Swisslitho AG
- 型号：NanoFrazor 3D
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■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 10nm, Z: 1nm) 高速直写 20 mm/s 与EBL媲美 ■ 无需显影，实时观察直写效果...
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瑞典MYCRONIC光刻机价格：面议- 品牌：瑞典Mycronic
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FPS 6100多功能掩膜版光刻机价格：面议- 品牌：瑞典Mycronic
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生产效率提高，曝光速度更快，减少辅助操作时间； 画面质量更优质，更小的成像单位； 6种曝光水平和干板曝光的平台可扩展性； FPS5100/5300/5500可升级。
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PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公...
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德国Zeiss SEM 电子束直写仪价格：面议- 品牌：德国蔡司
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利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（zui小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等前沿...
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德国高精密激光直写绘图机 非接触式曝光 可支持GX数位光刻与灰度光刻
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基本灰度曝光模式 对准摄像系统 实时自动对焦 User-optimized接触向导
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德国海德堡VPG 1600 型大尺寸掩膜版光刻机价格：面议- 品牌：德国海德堡
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VPG 设计有可以搭载多样化不同尺寸的承载平台，例如：1600mm*1400mm,1100mm*1100mm,800mm*800mm. 但这些系统都安装有气浮装置，可配置半自动或者全自动的上下版装置，...
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大尺寸掩膜版生产工具 平行化曝光制程技术
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