光刻机/3D打印机/电子束直写仪

00型光学正面和背面光刻机系统OAI模型800光刻机是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供极其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大超过任何红外背后对准器性能的一个非

I线步进式光刻机 / I-line stepper，型号：Nikon NSR-I12技术指标及功能广泛应用于生产线，是6英寸，8英寸等主力I线生产机台，适用于I线光刻胶的曝光，操作简单，曝光精度准，

适用于分辨率不低于0.65μm的大规模集成电路工艺器件量产的G-line步进式光刻机。

把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上，分区域进行步进式曝光。本机台可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圆高精度投影曝光，曝光精度可达500nm。基本

■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 10nm, Z: 1nm) 高速直写 20 mm/s 与EBL媲美 ■ 无需显影，实时观察直写效果...

提高分辨率 25%； 更佳的贴片性能 70%； 更快的写入速度20% 。

· zuixin的创新性Prexision平台具备优异的极ng准度与可重复性 · 用我们的ZL技术改善配准测量。 · 因为第 一次测量的结果精确无误，这大大给您节省了周转时间。 · ...

生产效率提高，曝光速度更快，减少辅助操作时间； 画面质量更优质，更小的成像单位； 6种曝光水平和干板曝光的平台可扩展性； FPS5100/5300/5500可升级。

PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公...

USS苏斯光刻机用曝光灯HBO 200W/DC ,HBO 350W/S, HBO 1000W/D, HBO 5000W/S详细介绍SUSS Micro Tecv美国苏斯公司生产的半导体和太阳

利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（zui小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等前沿...

德国高精密激光直写绘图机 非接触式曝光 可支持GX数位光刻与灰度光刻

基本灰度曝光模式 对准摄像系统 实时自动对焦 User-optimized接触向导

VPG 设计有可以搭载多样化不同尺寸的承载平台，例如：1600mm*1400mm,1100mm*1100mm,800mm*800mm. 但这些系统都安装有气浮装置，可配置半自动或者全自动的上下版装置，...

大尺寸掩膜版生产工具 平行化曝光制程技术