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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NSC-3000(A)
- 产地:美国
台式自动系统,带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NSC-3000(M)
- 产地:美国
带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NSC-1000
- 产地:美国
带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NSC-4000
- 产地:美国
先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热(可加热至700度)功能;8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NSC-4000(M)
- 产地:美国
带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到到8“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NEE-4000(M)
- 产地:美国
NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置,样品台位于主腔体,二级腔体则用于安置电子束源。两个腔体之间的门阀可以作为预真空锁,使得电子束源腔体保持真空的情况下,实现基片通过主腔体放入基片到样平台(或...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NTE-4000(A)
- 产地:美国
1、设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。 2、具有低价格, 高性能以及高能力的特点,可满足于客户研发及小规模生产的应用要求,该系统可以在设定的RMS电流下,或者在闭环的配置下操作...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NTE-4000(M)
- 产地:美国
1、设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。 2、具有低价格, 高性能以及高能力的特点,可满足于客户研发及小规模生产的应用要求,该系统可以在设定的RMS电流下,或者在闭环的配置下操作...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NTE-3500(M)
- 产地:美国
1、提供NTS系列的系统(NTS-3000,NTS-3500, NTS-4000),具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统,我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力,这样可以充分利用溅射和蒸发技术...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NTE-3000
- 产地:美国
1、提供NTS系列的系统(NTS-3000, NTS-4000),具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统,我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力,这样可以充分利用溅射和蒸发技术,而无须中断真空。...
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- 品牌: 美国那诺-马斯特
- 型号:NOC-4000
- 产地:美国
NOC-4000产品特点: 射频偏压样品台 膜厚监测仪 极限真空5x10-7Torr 高精度及高重复性 高品质膜层 原子级的洁净表面 原子级清洗和抛光 通过LabView软件实现P...
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Deposition沉积系统解决方案
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磁控溅射系统的行业应用
磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8"旋转平台,可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-...
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磁控溅射系统的行业应用
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Deposition沉积系统技术资料
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Therma Evaporation 热蒸发镀膜
Therma Evaporation 热蒸发镀膜 产品样册
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Sputter 磁控溅射镀膜
Sputter 磁控溅射镀膜 产品样册
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Optical Coating 光学涂覆
Optical Coating 光学涂覆 产品样册
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E-Beam Evaporation 电子束蒸发镀膜
E-Beam Evaporation 电子束蒸发镀膜 产品样册
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Therma Evaporation 热蒸发镀膜
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Deposition沉积系统产品文章
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电子束蒸发镀膜
电子束蒸发镀膜 一、电子束蒸发镀膜简述: 电子束蒸发镀膜(Electron Beam Evaporation)是物理气相沉积的一种,与传统蒸镀方式不同,电子束蒸镀利用电...
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真空蒸发镀膜技术原理
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详解磁控溅射技术
一、磁控溅射的工作原理:磁控溅射是一种常用的物理气相沉积(PVD)的方法,具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好,成分接近靶材成分等众多优点。磁控溅射的工作原理是:在高真空的条件下充入适量的...
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带你一文领略磁控溅射
主要功能:主要用于半导体应用,及各种需要进行微纳工艺溅射镀膜的情形。可以用于金属材料(金、银、铜、镍、铬等)的直流溅射、直流共溅射,绝缘材料(如陶瓷等)的射频溅射,以及反应溅射能力。基片可支持硅片,氧...
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电子束蒸发镀膜
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