Deposition沉积系统

带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达6“旋转平台，支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基...

先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热（可加热至700度）功能；8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空...

带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达到到8“旋转平台，支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管...

NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，样品台位于主腔体，二级腔体则用于安置电子束源。两个腔体之间的门阀可以作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，实现基片通过主腔体放入基片到样平台（或...

NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置，样品台位于主腔体，二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，通过主腔放入基片到样平台（或夹具）上或从中取出。...

1、设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。 2、具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求，该系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作...

1、设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。 2、具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求，该系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作...

1、提供NTS系列的系统(NTS-3000, NTS-3500，NTS-4000)，具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统，我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力，这样可以充分利用溅射和蒸发技术...

1、提供NTS系列的系统(NTS-3000,NTS-3500, NTS-4000)，具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统，我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力，这样可以充分利用溅射和蒸发技术...

1、提供NTS系列的系统(NTS-3000, NTS-4000)，具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统，我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力，这样可以充分利用溅射和蒸发技术，而无须中断真空。...

NOC-4000产品特点: 射频偏压样品台 膜厚监测仪 极限真空5x10-7Torr 高精度及高重复性 高品质膜层 原子级的洁净表面 原子级清洗和抛光 通过LabView软件实现P...