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电子束光刻系统
品牌:德国Raith
型号:Electron Beam Lithography
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电子束光刻 CABL-9000C
品牌:德国Raith
型号: CABL-9000C
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日本Microphase 光谱响应测试系统/IPCE测试系统/QE量子效测量系统
品牌:深圳科时达
型号:IPCE
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原子层沉积系统
品牌:深圳科时达
型号:15
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无掩膜直写光刻机
品牌:深圳科时达
型号:Micro Writer ML3
- 产品品牌
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AMP - 无掩模曝光机
- 品牌:美国IMP
- 型号: SF-100XCEL/SF-100XPRESS
- 产地:美国
产品简介产品优点微米和亚微米光刻 (最小可达到0.6um线宽) 紫外光直写曝光,无需掩模,大幅节约了掩模加工费用灵活性高,可直接通过电脑设计光刻图形,并可根据设计要求随意调整。可升级开放性系统设计。按照客户要求可从低端到高端自由配置使用维护简单, 设备耗材价格低。应用范围广,目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。型号SF-100 XCEL SF-100 XPRESS SF-100 XTREME光学系统标准光学系统高分辨
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英国Nanobean NB5 电子束光刻机
- 品牌:英国NanoBeam
- 型号: NB5
- 产地:英国
具有良好的稳定性,平均正常运行时间超过93%
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中科光电紫外光刻机URE-2000/34AL
- 品牌:光电所
- 型号: URE-2000/34AL
- 产地:成都
曝光分辨率: 0.8μm-1μm , 套准精度:±0.8-1μm
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德国Allresist 电子束光刻胶AR-P 617
- 品牌:德国Allresist
- 型号: AR-P 617,AR-P6200
- 产地:德国
德国Allresist 电子束光刻胶(电子束抗蚀剂)(E-beam resist) 电子束正胶:PMMA 胶,PMMA/MA 聚合物, LIGA 用胶等。 电子束负胶:高分辨率电子束负胶,化学放大胶(高灵敏度电子束胶)等。
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德国Zeiss SEM 电子束直写仪
- 品牌:德国蔡司
- 型号: SIGMA
- 产地:德国
利用曝光抗蚀剂,采用电子束直接曝光,可在各种衬底材料表面直写各种图形,图形结构(zui小线宽为10mm),是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件,光子晶体,低维半导体等前沿领域。
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JEOL 粉末供应装置TP-99010FDR
- 品牌:日本电子
- 型号: TP-99010FDR
- 产地:日本
JEOL 粉末供应装置TP-99010FDR,用气体通过管道定量输送粉末的送粉器。
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JEOL场发射电子显微镜JEM-3200FS
- 品牌:日本电子
- 型号: JEM-3200FS
- 产地:日本
JEM-3200FS场发射电子显微镜配备了最高加速电压为300kV的场发射电子枪(FEG)和镜筒内置式Ω型能量过滤器,能为广泛的研究领域提供各种全新的解决方案。
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日本JEOL大功率电子枪/电源EBG-300UA,JEGB-1000UB,JEBG-3000UB
- 品牌:日本电子
- 型号: EBG-300UA,JEGB-1000UB,JEBG-300
- 产地:日本
日本JEOL 大功率电子枪/电源EBG-300UA,JEGB-1000UB,JEBG-3000UB,是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源,能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连续镀膜,此外在电子束熔炼时,可用于高熔点金属锭的生产及提纯。
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Gentle Mill 离子精修仪
- 品牌:匈牙利Technoorg Linda
- 型号: Gentle Mill
- 产地:匈牙利
Gentle Mill 离子精修仪产品专为最终抛光、精修和改善 FIB 处理后的样品而设计。 Gentle Mill 型号非常适合要求样品无加工痕迹、表面几乎没有任何损坏的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用户。 同时,Gentle Mill 还适用于快速减薄凹坑或超薄平面 (< 25 μm) 以及机械抛光样品。
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无掩膜直写光刻机
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Micro Writer ML3
- 产地:美国
小型台式无掩膜光刻机- MA1200 小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。 传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。 MA1200 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。 产品特点 Focus Lock自动对焦功能 Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。 光学轮廓仪 MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm,方便快捷。 标记物自动识别 点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。 直写前预检查 软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。 简单的直写软件 MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。 Clewin 掩膜图形设计软件 ● 可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等) ● 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式 ● 书写范围只由基片尺寸决定
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AMP - 无掩模曝光机
- 品牌:美国IMP
- 型号: SF-100XCEL/SF-100XPRESS
- 产地:美国
产品简介产品优点微米和亚微米光刻 (最小可达到0.6um线宽) 紫外光直写曝光,无需掩模,大幅节约了掩模加工费用灵活性高,可直接通过电脑设计光刻图形,并可根据设计要求随意调整。可升级开放性系统设计。按照客户要求可从低端到高端自由配置使用维护简单, 设备耗材价格低。应用范围广,目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。型号SF-100 XCEL SF-100 XPRESS SF-100 XTREME光学系统标准光学系统高分辨
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NX-2600-全晶圆片
- 品牌:美国NANONEX
- 型号: NX-2600
- 产地:美国
多功能整片基板带对准功能 多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统
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Nanonex Lumina-200
- 品牌:美国NANONEX
- 型号: Lumina-200
- 产地:美国
机器掩膜防护工艺,提供完整的纳米压印解决方案
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Nanonex Lumina-200
- 品牌:美国NANONEX
- 型号: Lumina-200
- 产地:美国
机器掩膜防护工艺,提供完整的纳米压印解决方案
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Nanonex纳米压印系统NX-2500
- 品牌:美国NANONEX
- 型号: NX-2500
- 产地:美国
Nanonex纳米压印系统NX-2500产品特点:1、 热塑化2、 紫外固化3、 热压与紫外压印同时进行 4、 热固化5、气垫软压技术(ACP)6、NanonexZG技术7、 WM的整片基板纳米压印 均匀性8、高通量 9、低于10nm分辨率10、亚1微米对准精度 11、快速工艺循环时间(小于60秒) 灵活性12、4″, 6″, or 8″压印面积可选择各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印 13、方便用户操作14、基于超过12年、15代产品开发经验的自动化压印操作,Nanonex压印系统经过大量实时实地验
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Nikon 一号线步进器NSR-SF 155
- 品牌:尼康
- 型号: NSR-SF 155
- 产地:日本
分辨力≦280 nm纳0.62曝光光源I-线(365 nm波长)还原比1:4曝光场26毫米×33毫米叠置≦25 nm吞吐量≧200晶片/小时(300毫米晶片,76发片),与200毫米晶片兼容
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光刻机 / 紫外曝光机 (Mask Aligner) M-100
- 品牌:深圳科时达
- 型号: M-100
- 产地:韩国
原产国: 韩国,唯一能做到图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻机,高性价比 型号:KCMA-100; 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等; ECOPIA为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。 感谢南开大学,中科院半导体所,中科院长春应化所,中科院物理所,浙江师范大学使用此设备做课题研究!! 此型号光刻机是所有进口设备中性能价格比最高的型号,达到欧美品牌的对准精度,CCD显示屏对准更为方便,液晶触摸屏操作,采用欧司朗紫外灯,寿命长。整机效果皮实耐用,正常使用3年内不会出问题!! 目前,上海蓝光已采用该公司全自动型光刻机做LED量化生产,证明其品质达到LED产业标准要求!!而且已经成功提供图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻工艺设备.
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日本 离子束刻蚀系统Elionix
- 品牌:日本ELIONIX
- 型号: EIS-200
- 产地:日本
EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、镀膜等。EIS-200原理: 利用ECR技术产生高能Ar+离子束,Ar+离子束通过电场加速到达样品表面,对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。EIS-200具有以下优点:? 方向性好,各向异性,陡直度高,侧向刻蚀少? 分辨率高? 不受刻蚀材料限制,可对石英等材料进行
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原子层沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: 15
- 产地:日本
日本Microphase 原子层沉积系统
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日本Microphase 光谱椭偏仪 PHE
- 品牌:深圳科时达
- 型号: PHE
- 产地:日本
世界级高精度光谱椭偏仪!可以精确测量折射指数、消光系数(n & K),膜厚等,广泛适用于半导体、电介质、聚合物、金属等材料,单层薄膜和多层膜。著名客户包括US Army Research Lab,NASA,NIST,UC Berkeley,MIT,Harvard,Honeywell和Sharp Microelectronics等。
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薄膜应力测量仪
- 品牌:深圳科时达
- 型号: 18
- 产地:日本
采用非接触MOS激光技术;不但可以精确的对样品表面应力分布进行统计分析,而且还可以进行样品表面二维应力、曲率成像分析;并且这种设计始终保证所有阵列的激光光点始终在同一频率运动或扫描,从而有效的避免了外界振动对测试结果的影响;同时大大提高了测试的分辨率;适合各种材质和厚度薄膜应力分析。
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原位薄膜应力测量仪
- 品牌:深圳科时达
- 型号: 11
- 产地:日本
采用非接触激光MOS技术;不但可以精确的对样品表面应力分布进行统计分析,而且还可以进行样品表面二维应力、曲率成像分析;客户可自行定义选择使用任意一个或者一组激光点进行测量;并且这种设计始终保证所有阵列的激光光点始终在同一频率运动或扫描,从而有效的避免了外界振动对测试结果的影响;同时大大提高了测试的分辨率;适合各种材质和厚度薄膜应力分析。
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磁控溅射系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: 22
- 产地:日本
全球专业的沉积设备制造商,为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案:电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等。
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日本Microphase 薄膜热应力测试系统Thermal Scan
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Thermal Scan
- 产地:日本
该设备已经广泛被全球著名高等学府(如:Harvard University 2套,Stanford University,Johns Hopkins University,Brown University 2套,Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute,西安交通大学等)、半导体制和微电子造商(如IBM.,Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC,Nissan ARC,Nichia Glass Corporation)等所采用。
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日本Microphase 光谱响应测试系统/IPCE测试系统/QE量子效测量系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: IPCE
- 产地:日本
专业太阳能测试设备制造商为客户提供全套专业的设备:1.太阳能电池光谱响应测试系统、IPCE测试系统、QE量子效率测试系统;2.太阳能电池测量系统(光谱响应测试系统,IPCE测试系统,QE量子效率测试系统,I-V曲线测量系统);3.太阳能电池I-V曲线测量系统,4.I-V 数据采集系统,5.太阳能模拟器,6.太阳能电池分选机,7.便携式太阳能电池I-V测试仪,8.分光辐射度计,9.参考电池/标准电池,10.太阳能模拟器均匀性图像分析系统;
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日本Microphase 电子束蒸发系统 EBES
- 品牌:深圳科时达
- 型号: EBES
- 产地:日本
全球专业的沉积设备制造商,为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案:电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等。
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日本Microphase 分子束外延系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Microphase
- 产地:日本
全球专业的沉积设备制造商,为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案:电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等。
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CIONE系列Mini 等离子反应离子刻蚀机
- 品牌:韩国Femto Science
- 型号: CIONEMini
- 产地:韩国
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Allresist 特殊功能光刻胶 SX AR-PC 5000/41
- 品牌:德国Allresist
- 型号: AllresistSXAR-PC5000/41
- 产地:德国
点:• 耐酸碱保护胶• 不含光敏物质,无需黄光室• 在40% KOH或50% HF酸中可长时间稳定• 通过双层工艺可实现正性(AR-P 3250) 或负性(AR-N 4400-05/10)光刻工艺 旋涂曲线。
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美国 那诺-马斯特 NRE-3500 (A) 全自动RIE反应离子刻蚀机
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: -NRE-3500(A)RIE
- 产地:美国
RIE反应离子刻蚀机NRE-3500(A)全自动RIE反应离子刻蚀机概述:独立式RIE反应离子刻蚀系统,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持ZD到12"的晶圆片。
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光刻胶
- 品牌:德国Allresist
- 型号: AR
- 产地:德国
光刻胶(resist)概述 光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist,又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC),封装(Packaging),微机电系统(MEMS),光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics),平板显示器(LED,LCD,OLED),太阳能光伏(Solar PV)等领域。 德国ALLRESIST公司是从事光刻用电子化学品研发、生产和销售的专业公司,有丰富
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电子束蒸发镀膜系统
- 品牌:美国PVD
- 型号: E-Beam Evaporator System
- 产地:美国
电子束蒸发镀膜系统
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高性能电子束曝光机EBPG5200
- 品牌:德国Raith
- 型号: EBPG5200
- 产地:德国
高性能电子束曝光机EBPG5200,自动化高速度的高精度电子束曝光技术
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电子束蒸发系统
- 品牌:美国PVD
- 型号: E-Beam Evaporator System
- 产地:美国
※ 主要应用于微电子、光电子、攻率器件、声表器件、射频 器件、先进封装(TSV)、MEMS、光学、材料研究等应 用中金属介质薄膜的沉积。 ※ 蒸发源:电子枪、热蒸发电阻或同时配置电子枪和热蒸发 电阻。 ※ 多种工装夹具:穹顶式、行星式、KNUNSEN式。 ※ 真空泵可选:低温泵/扩散泵,双叶旋片泵/干泵。 ※ 配置离子源实现工件预清洗及离子辅助沉积。 ※ 膜厚检测:石英晶体膜厚控制仪,光学膜厚控制仪。 ※ 选配离子束辅助沉积功能。
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ZetaScan
- 品牌:美国KLA
- 型号: ZetaScan
- 产地:浦东新区
ZetaScan是针对无图案晶圆/玻璃面板的激光检测系统,它采用多通道检测技术对玻璃上的缺陷进行检测和分类。扫描光束光学系统将高灵敏度与高产量相结合,可在几分钟内检测全部表面。通过扫描生成晶圆图,可以对玻璃上表面和下表面颗粒进行自动缺陷分类。
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Candela 8720
- 品牌:美国KLA
- 型号: Candela 8720
- 产地:浦东新区
Candela 8720缺陷检测系统集成了表面和光致发光(PL)检测技术,能够捕获各种关键的衬底和外延缺陷。使用统计工艺控制(SPC)方法的自动化晶圆检测可显着降低因外延缺陷导致的良率损失,最大限度地减少金属有机化学气相沉积(MOCVD)设备的工艺偏差,并增加MOCVD工艺设备的正常运行时间。
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- 电子束刻蚀系统
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