离子溅射仪指标参数

离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统，对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时，交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁，之后试样复原，再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料，氧气为离子溅射仪常用的反应气体。

相对于低真空溅射，高真空离子溅射仪所进行的高真空溅射有着更加小的粒度。

1、通过膜厚监控

（1）将总电源打开，将氩气开关打开（两成保持在大约0.035兆帕，在溅射时也需要对氩气的流量加以留心）

（2）将主机背面的开关按钮按下，往开机界面进入，按照提示进行下面一系列的操作。

（3）接下来仪器就开始自动洗靶，自动溅射，在溅射完成以后，等上一段时间，之后将stop按下放气，等到放气操作结束以后，将盖子打开，将样品取出。

（4）Target B type与上面的操作步骤相同

2、不通过膜厚监控

（1）其它操作步骤与上述的操作步骤相同，然而需要按照自己的需要对溅射电流和溅射时间zui长时间为4分钟）

以及循环次数（zui多循环9次）进行设置，将上下键按下来对时间进行设置。

（2）接下来仪器的自动洗靶就自动开始，自动溅射，在溅射完成以后，等上一段时间，之后将stop按下放气，等到放气操作结束以后，将盖子打开，将样品取出。

（3）B靶操作和A靶相同。

离子溅射仪指标参数

外形尺寸： 424× 290×265 毫米 

工作电压： 200-240VAC 50赫兹

溅射电压： DC2400伏特     

控制模式： 微处理器控制

zui大功率： 500瓦特       

溅射电流：不超过30 毫安

溅射时间：不超过600秒    

 极限真空 ：0.1帕

工作真空：不超过30Pa    

 膜层厚度： 内置膜厚估算（金靶）

真空测量：电阻规   

真空 速 率：小于每秒两升