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离子溅射仪指标参数

离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统,对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时,交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁,之后试样复原,再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料,有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料,氧气为离子溅射仪常用的反应气体。


相对于低真空溅射,高真空离子溅射仪所进行的高真空溅射有着更加小的粒度。


03.jpg


1、通过膜厚监控

(1)将总电源打开,将氩气开关打开(两成保持在大约0.035兆帕,在溅射时也需要对氩气的流量加以留心)


(2)将主机背面的开关按钮按下,往开机界面进入,按照提示进行下面一系列的操作。


(3)接下来仪器就开始自动洗靶,自动溅射,在溅射完成以后,等上一段时间,之后将stop按下放气,等到放气操作结束以后,将盖子打开,将样品取出。


(4)Target B type与上面的操作步骤相同


2、不通过膜厚监控

(1)其它操作步骤与上述的操作步骤相同,然而需要按照自己的需要对溅射电流和溅射时间zui长时间为4分钟)

以及循环次数(zui多循环9次)进行设置,将上下键按下来对时间进行设置。


(2)接下来仪器的自动洗靶就自动开始,自动溅射,在溅射完成以后,等上一段时间,之后将stop按下放气,等到放气操作结束以后,将盖子打开,将样品取出。


(3)B靶操作和A靶相同。


离子溅射仪指标参数

外形尺寸: 424× 290×265 毫米 


工作电压: 200-240VAC 50赫兹


溅射电压: DC2400伏特     

                     

控制模式: 微处理器控制


zui大功率: 500瓦特       

                        

溅射电流:不超过30 毫安


溅射时间:不超过600秒    

                       

 极限真空 :0.1帕


工作真空:不超过30Pa    

                          

 膜层厚度: 内置膜厚估算(金靶)


真空测量:电阻规   

            

真空 速 率:小于每秒两升


2007-01-13 浏览次数:20次
本文来源:https://www.yiqi.com/daogou/detail_4791.html
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