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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
主营产品:光刻机/3D打印机,镀膜沉积机,离子刻蚀与沉积系统,半导能检测仪器,UV清洗设备
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OAI 2012SM 自动化边缘曝光系统
  • 品牌:美国OAI
  • 型号:OAI 2012SM
  • 产地:美洲 美国
OAI 2000SM边缘曝光系统OAI 2000AF曝光系统
  • 品牌:美国OAI
  • 型号:OAI 2000SM/OAI 2000AF
  • 产地:美洲 美国
OAI 800FSA 光刻机
OAI 800FSA 光刻机
价格:面议
  • 品牌:美国OAI
  • 型号:OAI 800FSA
  • 产地:美洲 美国
  • 800FSA型掩模对准器可以配置多种OAI光源,功率高达2KW。

OAI 5000E 光刻机
OAI 5000E 光刻机
价格:面议
  • 品牌:美国OAI
  • 型号:OAI 5000E
  • 产地:美洲 美国
OAI 6000 FSA 全自动上侧后侧光刻机
  • 品牌:美国OAI
  • 型号:OAI 6000 FSA
  • 产地:美洲 美国
  • •全自动 •侧面对齐 •可选:底部对齐 UV到NUV •集群工具集成 •自定义软件

OAI 800型光学正面和背面光刻机系统
  • 品牌:美国OAI
  • 型号:OAI 800
  • 产地:美洲 美国
美OAI光刻机Model 200, 800MBA, 5000, 2000
  • 品牌:美国OAI
  • 型号:Model 200, 800MBA, 5000, 2000
  • 产地:美洲 美国
Nikon NSR-I12 I线步进式光刻机
  • 品牌:日本尼康
  • 型号:Nikon NSR-I12
  • 产地:亚洲 日本
Nikon G-line步进光刻机: NSR-1755G7
  • 品牌:日本尼康
  • 型号:NSR-1755G7
  • 产地:亚洲 日本
Nikon NSR 1755i7B 6英寸分步重复光刻机
  • 品牌:日本尼康
  • 型号:NSR 1755i7B
  • 产地:亚洲 日本
瑞士NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机
  • 品牌:瑞士Swisslitho AG
  • 型号:NanoFrazor 3D
  • 产地:欧洲 瑞士
  • ■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 10nm, Z: 1nm) 高速直写 20 mm/s 与EBL媲美 ■ 无需显影,实时观察直写效果...

瑞典MYCRONIC光刻机
瑞典MYCRONIC光刻机
价格:面议
  • 品牌:瑞典Mycronic
  • 型号:Prexision-800
  • 产地:欧洲 瑞典
  • 提高分辨率 25%; 更佳的贴片性能 70%; 更快的写入速度20% 。

瑞典Mycronic 掩膜计量系统Prexision-MMS
  • 品牌:瑞典Mycronic
  • 型号:Prexision-MMS
  • 产地:欧洲 瑞典
  • · zuixin的创新性Prexision平台具备优异的极ng准度与可重复性 · 用我们的ZL技术改善配准测量。 · 因为第 一次测量的结果精确无误,这大大给您节省了周转时间。 · ...

FPS 6100多功能掩膜版光刻机
  • 品牌:瑞典Mycronic
  • 型号:FPS 6100
  • 产地:欧洲 瑞典
  • 生产效率提高,曝光速度更快,减少辅助操作时间; 画面质量更优质,更小的成像单位; 6种曝光水平和干板曝光的平台可扩展性; FPS5100/5300/5500可升级。

德国Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系统
  • 品牌:德国Eulitha
  • 型号:PhableR 100
  • 产地:欧洲 德国
  • PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统,但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似,涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公...

德国Zeiss SEM 电子束直写仪
  • 品牌:德国蔡司
  • 型号:SIGMA
  • 产地:欧洲 德国
  • 利用曝光抗蚀剂,采用电子束直接曝光,可在各种衬底材料表面直写各种图形,图形结构(zui小线宽为10mm),是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件,光子晶体,低维半导体等前沿...