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深圳市蓝星宇电子科技有限公司
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Syskey 紧凑式溅射系统 Compact Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸，基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%， 最多可配备5个6英寸磁控溅射源（可选配...
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Syskey 紧凑式热蒸发系统 Compact Thermal ，灵活的基板尺寸，最大可达6英寸， 基板架加热温度最高可达500℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%，可选配电子束或热舟蒸发源（最多3个...
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高真空溅射系统 HV Sputter，灵活的基板尺寸，最大可达12英寸或200×200毫米， 基板架加热温度最高可达800℃，出色的薄膜均匀性，误差小于±3%
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Syskey 等离子增强原子沉积 PEALD价格：面议- 品牌：SYSKEY
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Syskey 等离子增强原子沉积 PEALD, 用于超薄氧化物和氮化物涂层的 ALD 和 PEALD 系统。6 前体线路可支持5种材料沉积，气体管路拓宽反应窗户。紧凑的手套箱集成不占用额外的实验室空间...
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Syskey 感应耦合-反应离子刻蚀机 ICP-RIE,用于氧化物和氮化物蚀刻的 ICP-RIE 系统。气体管线可实现金属蚀刻。全自动作，支持一键工序。
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Syskey 离子束刻蚀机 IBE价格：面议- 品牌：SYSKEY
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Syskey 离子束刻蚀机 IBE, 离子束蚀刻（IBE）是一种先进的蚀刻技术，利用离子源去除来自基材表面的材料具有卓越的均匀性和精度。国际教育局可以适用于金属、氧化物、半导体、有机物等多种材料化合...
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yskey CVD Cluster 化学气相沉积，• 灵活的基板尺寸可达 12 英寸 • 基板支架加热至 400 °C • 优 异的薄膜均匀性，小于 ±2%/±5% • 每个工艺室有 6 条...
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