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SENTECH SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统
品牌:德国Sentech
型号: SI 500
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Beneq Transform® 沉积系统
品牌:深圳科时达
型号: Transform®
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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
品牌:美国Forge Nano
型号:PANDORA
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等离子体辅助原子层沉积系统 PEALD
品牌:美国ANRIC
型号:AT-400
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美NANO-MASTER电子束蒸镀系统 NEE-4000
品牌:美国Nano-Master
型号: NEE-4000
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美国 Nano-master ALD/PEALD原子层沉积机 NLD-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NLD-4000
- 产地:美国
大面积过滤器用于捕捉未反应的前驱体; 高深宽比结构的涂覆; 全自动计算机控制,菜单驱动; LabVIEW友好用户界面; EMO和安全互锁; 占地面积仅24”x44”带封闭面板的柜体对超净间很理想。
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PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-1000 Pro
- 产地:芬兰
PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机技术参数:衬底尺寸和类型 。156 mm x 156 mm硅片800~1000片/批次(双面/背对背) 。高达400 mm x 600 mm玻璃基板30~50片/批次(双面/背对背) 。大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬 币,医疗植入部件,机械部件等) 。多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品工艺温度: 50 - 500 °C基片传送选件: 。气动升降(手动装载,带叉车
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P-300 Advanced ALD 高 级型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300 Advanced
- 产地:芬兰
PICOSUN P-300 Advanced ALD 高 级型原子层沉积机衬底尺寸和类型: 。156 mm x 156 mm硅片50~100片/批次(双面/背对背) 。高达300 mm x 300 mm玻璃基板10~20片/批次(双面/背对背) 。大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬 币,医疗植入部件,机械部件等) 。粉末与颗粒 。Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm 。多孔,通孔,与高深宽
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P-300B Advanced ALD 高 级原子沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300B Advanced
- 产地:芬兰
液态,固态,气态,臭氧源; 前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务; 4根独立源管线,zui多加载6个前驱体源。
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芬兰 PICOSUN R-200标准型ALD
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: R-200标准型
- 产地:芬兰
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极 佳的均匀性,包括zui具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。
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P-200S Pro ALD 生产型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-200S Pro
- 产地:芬兰
PICOSUN P-200S Pro ALD 生产型原子层沉积机 技术参数衬底尺寸和类型: 。50 – 200 mm /单片 。156 mm x 156 mm 太阳能硅片 。150 mm x 150 mm 显示面板工艺温度: 50 - 500 °C , 可选更高温度基片传送选件 : 。气动升降(手动装载) 。半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现 。25片晶圆盒对盒式全自动装
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P-300F,P-300BV 生产型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300F,P-300BV
- 产地:芬兰
PICOSUN P-300F Pro ALDPICOSUN P-300BV Pro ALD技术参数 。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 (标准间距) 。150 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距) 。100 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)工艺温度: 50 - 300 °C基片传送选件:。 P-300F Pro: 27片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICO
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P-300S 生产线型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300S
- 产地:芬兰
半自动装载,用单片Load lock与磁力操纵杆实现; 25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现。
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芬兰Picosun ALD原子层沉积系统
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: Picosun ALD
- 产地:芬兰
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美国Angstrom Dep II 原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Angstrom Advanced
- 型号: Dep II
- 产地:美国
原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD),也称为原子层外延(Atomic Layer Epitaxy,ALE),或原子层化学气相沉积(Atomic Layer Chemical Vapor Deposition,ALCVD)。
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Beneq Transform® 沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Transform®
- 产地:芬兰
Beneq Transform® 凭借多功能性和灵活性,制造了全新的ALD集群工具设备。可适用于广泛的应用场景并满足不同的市场细分。
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Beneq P400A & P800 原子层沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: P400A & P800
- 产地:芬兰
eneq P400A 和 P800 是专为工业规模生产设计的原子层沉积系统。它们是从研发阶段到大规模的工业化生产的理想工具。该系统经过工业认证,技术成熟可靠。该设计主要基于在严苛的工业应用中连续运行25年(24/7)的丰富经验。
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Beneq Transform® 沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Transform®
- 产地:芬兰
eneq Transform® 凭借多功能性和灵活性,制造了全新的ALD集群工具设备。可适用于广泛的应用场景并满足不同的市场细分。Beneq Transform™配置多个ALD工艺模块,以满足特定的晶圆产能要求,也可为应对不断增长的产量或新的ALD应用而进行升级
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Beneq P400A & P800 原子层沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: P400A & P800
- 产地:芬兰
适用于大批量生产和厚膜堆叠生产。
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Beneq TFS 200原子沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: TFS 200
- 产地:芬兰
Beneq TFS 200 是一款适用于科学研究和企业研发的最灵活的 ALD 平台。 Beneq TFS 200 是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至最低而特别设计的。各种配置选项和升级意味着 Beneq TFS 200 将与您一起成长,以满足高标准的研发需求。 Beneq TFS 200 不仅可以在晶圆,平面物体上镀膜,还适用于粉末,颗粒,多孔的基底材料,或是有高深径比的3D物体内沉积高保形薄膜。
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Beneq Genesis ALD原子层沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Genesis ALD
- 产地:芬兰
适用于电池,太阳能和柔性电子产品的功能性ALD镀膜。
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AdNaNotek 电子束蒸发 EBS-150
- 品牌:深圳科时达
- 型号: EBS-150
- 产地:美国
AdNaNotek 电子束蒸发 EBS-150.
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AdNaNotek 脉冲激光沉积系统 PLD-12L/18L
- 品牌:深圳科时达
- 型号: PLD-12L/18L
- 产地:美国
脉冲激光沉积是一种真空镀膜技术。
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ALD原子层沉积设备-SVT
- 品牌:美国SVT Associates
- 型号: ALD-05
- 产地:美国
美国SVT公司ALD原子层沉积系统自1990年来薄膜淀积设备ding级制造商。拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发。提供广泛的服务,包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制设备制造和工艺技术的高度结合,为客户提供可靠的技术服务实验室7台应用淀积设备生长出的材料多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市场在薄膜淀积领域拥有超过120台设备的ding级供应商。NorthStar ALD系统介绍:NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。每台设备可以提供多
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等离子体增强原子层沉积系统
- 品牌:美国Rocky Mountain
- 型号: PEALD
- 产地:美国
沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度,是制作纳米结构从而形成纳米器件的工具。
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原子层沉积系统ALD
- 品牌:德国爱谱斯
- 型号:
- 产地:德国
ALD可实现从传统的 0D、1D 和 2D 材料到仿生结构和混合材料、多孔模板和具有均匀控制成分和物理化学性质的三维复杂纳米结构。
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ald原子层沉积 NLD-3000原子层沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-3000
- 产地:美国
NLD-3000原子层沉积系统:ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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ald原子层沉积设备 NLD-4000(M)原子层沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-4000(M)
- 产地:美国
NLD-4000(M)原子层沉积系统:ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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ald原子层沉积 NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-4000(ICPA)
- 产地:美国
NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统:ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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原子层沉积设备 NLD-4000(A)全自动原子层沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-4000(A)
- 产地:美国
NLD-4000(A)全自动原子层沉积系统:ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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薄膜沉积系统 NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-3500(A)
- 产地:美国
ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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原子层沉积 NLD-4000(ICPM)PEALD系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-4000(ICPM)
- 产地:美国
ALD原子层沉积可以满足准确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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等离子体辅助原子层沉积系统 PEALD
- 品牌:美国ANRIC
- 型号: AT-400
- 产地:美国
※ 广泛应用于光学薄膜、铜互连、MEMS、TSV、高k介质 层、金属栅电极(metal gate)等应用。 ※ 原子级别的薄膜沉积。 ※ 沉积参数高度可控性:厚度、成分和结构。 ※ 优异的薄膜均匀性和一致性。 ※ 薄膜台阶覆盖率高
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300高级版
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: PICOSUN ALD R-300
- 产地:芬兰
Picosun™ 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作,也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: PICOSUN ALD R-200
- 产地:芬兰
PICOSUN®R-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件,显示器,LED,激光和3D对象,例如透镜,光学器件,珠宝,
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: PICOSU NALD R-200
- 产地:芬兰
PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件,显示器,LED,激光和3D对象,例如透镜,光学器件,珠宝,硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场领dao者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的shou选工具。
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等离子增强原子层沉积系统
- 品牌:深圳原速
- 型号: PEALD E200SP
- 产地:深圳
真空测量采用双真空压力计组合方式,工艺数据更真实,更迅速,更精确,为工艺人员提供井真的数据采集来源,为工艺的可重复性提供了可靠的保障。
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热法原子层沉积系统
- 品牌:深圳原速
- 型号: Thermal-ALD E200S
- 产地:深圳
真空测量采用双真空压力计组合方式,工艺数据更真实,更迅速,更精确,为工艺人员提供井真的数据采集来源,为工艺的可重复性提供了可靠的保障
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超高真空集成原子层沉积系统
- 品牌:深圳原速
- 型号: UHV ALD
- 产地:深圳
框架采用进口铝材搭建,重量轻、承载能力强,散热性好 外壳采用碳钢烤漆及圆角处理,轻便美观,拆卸方便,符合人体工学 显示屏360度自由旋转,可调视距、视角、自由悬停
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大尺寸原子层沉积系统
- 品牌:深圳原速
- 型号: Thermal-ALD E300S
- 产地:深圳
真空测量采用双真空压力计组合方式,工艺数据更真实,更迅速,更精确,为工艺人员提供井真的数据采集来源,为工艺的可重复性提供了可靠的保障
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江苏磐石ALD原子层沉积镀膜设备可镀钙钛矿氧化铝
- 品牌:江苏磐石
- 型号: PS-ALD01
- 产地:徐州
不均匀性低于1%; 阳极氧化铝腔体; 小反应腔体容积确保快速的循环时间并提高质量; ZD可支持4英寸基片; 最多支持4路50cc/100cc前驱体源; 高深宽比结构的保形生长。
- 原子层沉积系统
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