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Syskey 等离子增强化学气相沉积 PECVD, 用于的 PECVD 系统, 气体管线可实现硅基材料沉积。 • 灵活的基板尺寸可达 12 英寸 • 基板支架加热至 400 °C • ...

Syskey 感应耦合-反应离子刻蚀机 ICP-RIE,用于氧化物和氮化物蚀刻的 ICP-RIE 系统。气体管线可实现金属蚀刻。全自动作，支持一键工序。

Syskey RIE 反应离子刻蚀机，用于氧化物和氮化物蚀刻的 RIE 系统。气体管线可实现硅基材料刻蚀。全自动作，支持一键工序。

Syskey 离子束刻蚀机 IBE, 离子束蚀刻（IBE）是一种先进的蚀刻技术，利用离子源去除来自基材表面的材料具有卓越的均匀性和精度。国际教育局可以适用于金属、氧化物、半导体、有机物等多种材料化合...

yskey CVD Cluster 化学气相沉积，• 灵活的基板尺寸可达 12 英寸 • 基板支架加热至 400 °C • 优 异的薄膜均匀性，小于 ±2%/±5% • 每个工艺室有 6 条...

华欣创能实验室氢气发生器 是一款 专为GC、总烃分析仪等小流量需求场景 设计的高效、安全制氢设备。用于GC载 气，也可用做FID和FPD等检测器的燃烧 气。氢气发生器采用质子交换膜技术，电 解去离子水...

实验室氢气发生器 （非免维护台式机）,采用领先业内PEM技术电解纯水制氢，无需用碱，无腐蚀无污染。 氢气纯度高99.999%，流量稳定，压力采用一体化的控制.

超高纯氢气发生器 （免维护版柜式机）HXCN-H-M0.6,HXCN-H-M1.2,HXCN-H-M5,HXCN-H-M10，采用PEM技术电解纯水制氢，无需用碱直接电解纯水，无腐蚀无污染。 国外高端...

高纯度氢气发生器 （免维护版撬装机），采用领先业内PEM技术电解纯水制氢，无需用碱，无腐蚀无污染。 创新的PSA氢气干燥模块确保高等级的氢气纯度，完全免维护。

华欣创能 空气发生器 HXCN-A-M5，可取代传统的高压空气瓶，采用不锈钢储 气罐，使化验室仪器净化;

华欣创能 氮气发生器 HXCN-N-M30，（免维护版柜式机），采用气液分离设备能将压缩空气中水分进行分离，减轻对分离膜的损害，分离膜的使用寿命.

德国 Raith 150 Two 高分辨电子束曝光系统，可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。

CHIPSCANNER能够以纳米分辨率扫描cm2尺寸的芯片区域，并为3D分析提供出色的层间精度。

德国Raith ELPHY 最简单且最具经济性的专业纳米光刻和纳米加工途径， 这是一套纳米光刻升级套件，能够使扫描电子显微镜 (SEMs)、聚焦离子束显微镜 (FIBs)、氦离子显微镜 (HIM...

德国Raith eLINE Plus 电子束光刻机，纳米加工的“瑞士军刀”