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科特莱思科热阻蒸发镀膜系统Nano36
品牌:美国Kurt J. Lesker
型号:Nano36
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英国VacCoat 系列离子溅射仪
品牌:英国Vac Coat
型号:VacCoat-01
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单靶磁控溅射仪
品牌:沈阳科晶
型号:VTC-600-1HD
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薄膜电池制备系统
品牌:沈阳科晶
型号:VGB-600-3HD
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三靶磁控溅射仪
品牌:沈阳科晶
型号:VTC-600-3HD-1000
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磁控溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-650MS
- 产地:
配置参数如下:2 仪器尺寸:600mm W x 450mm D x 750mm H2 工作腔室:硼硅酸盐玻璃180mm Dia x 200mm H 2 真空系统: 涡轮分子泵,抽速为300L/s 前级机械泵:抽速为2L/s,带防返油电磁阀及油污过滤器 2 真空测量:采用复合真空计监测真空2 极限真空度: 优于5×10-5Pa2 工作真空度:溅射真空度手动调整2 工作气体:溅射工作气体:氩气2 工作电压:0-800V 2 溅射电流:0-1000mA2 靶材:ф60-80mm弱磁靶2 电源:230V/50Hz
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小型热蒸发镀膜仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-80AF
- 产地:
配置参数如下:2 仪器尺寸 : 400mm×320mm×450mm(L×W×H)2 真空样品室: 硼硅酸盐玻璃 170mm×200mm(D×H)2 操作真空: 2×10-2mbar2 工作电压: 0-10V /AC可调2 蒸碳电流 0-80A2 真空泵: 2升两级机械旋转泵
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驰奔DESK-V TSC高真空小型离子溅射仪
- 品牌:北京驰奔
- 型号: Desk-V TSC
- 产地:美国
DESK-V TSC型小型离子溅射仪,采用磁控溅射方式,广泛用场发射扫描电镜或透射电镜样品制备或高质量镀膜试验。采用ZL的阳极保护栅网,实现镀膜过程中样品表面保持常温状态,没有热损伤。该溅射仪具有样品等离子清洗刻蚀功能,可选配蒸碳附件。主要功能:1、精细、超精细离子溅射导电膜制备;专业级金属膜层试验。2、样品等离子刻蚀清洗3、蒸碳镀膜主要特点:1、磁控溅射速度快。对于扫描电镜或透射电镜制样,抽真空-溅射-泄真空3分钟完成。2、镀膜质量更高,可获得精细晶粒膜层,膜层结合力强度高。可使用结晶更细小的金属靶材。
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驰奔DESK-V小型离子溅射仪
- 品牌:北京驰奔
- 型号: DESK-V
- 产地:美国
DESK-V TSC型小型离子溅射仪,采用磁控溅射方式,广泛用场发射扫描电镜或透射电镜样品制备或高质量镀膜试验。采用ZL的阳极保护栅网,实现镀膜过程中样品表面保持常温状态,没有热损伤。该溅射仪具有样品等离子清洗刻蚀功能,可选配蒸碳附件。主要功能:1、离子溅射镀膜2、样品等离子刻蚀清洗3、蒸碳镀膜主要特点:主要特点:1、大的溅射样品室,获得更稳定的真空环境,镀膜质量更高。2、对样品无热损伤的冷溅射。3、样品等离子刻蚀功能,一个手动控制挡板降低样片在刻蚀过程中受到的污染。4、基于PLC的强大控制系统,全部触摸
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驰奔GC系列小型离子溅射仪
- 品牌:北京驰奔
- 型号: GC系列
- 产地:
【简介】 驰奔-E系列扫描电镜,高真空模式或高分辨模式,要求样品必须导电良好,否则样品表面荷电造成图像缺陷和分辨率恶化。对于非导电样品,表面导电膜层制备,最常使用溅射金属导电膜层。常用贵金属如Au、Pt、Au/Pd合金,获的细小晶粒的精细膜层。 驰奔GC系列离子溅射仪,可满足各种材料的溅射镀膜、各种扫描电镜额溅射镀膜。为客户提供正确解决方案。【特点】 ● 多种靶材可供可选 ● 两种普通直流和磁控溅射模式可选 ● 大型玻璃工作室,溅射过程中真空稳定,溅射电流稳定,溅射膜层均匀。 ● 可以实现冷溅射,无样品
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离子磁控溅射仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650PVD
- 产地:郑州
小实验室精密小型溅射仪器郑州科探KT-Z1650PVD,能够在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜,使样品适用于扫描电子显微镜(SEM)分析。仪器结构紧凑,全自动控制,设计符合人体工程学,所得结果一致,可重复性高。
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水冷型磁控溅射仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650PVD
- 产地:郑州
水冷型磁控溅射仪,7寸人机界面,自动手动模式切换控制,最大功率1000w直流磁控溅射。
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郑科探实验室大功率桌面磁控溅射仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650PVD
- 产地:郑州
大功率桌面溅射仪,采用小电流高电压,最大功率1000w,配有水冷机接口,可长时间运行。
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小型溅射仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650PVD
- 产地:郑州
小型溅射仪郑州科探KT-Z1650PVD,能够在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜,使样品适用于扫描电子显微镜(SEM)分析。仪器结构紧凑,全自动控制,设计符合人体工程学,所得结果一致,可重复性高。
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郑科探实验室小型蒸镀仪镀金仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650CVD
- 产地:郑州
小型蒸镀仪KT-Z1650CVD是郑州科探仪器设备有限公司生产,台式设计、软件自动操控、高性价比,非常适合实验室科研使用。 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面。软件自动操控、工艺储存,高性价比,非常适合实验室科研使用。称为热蒸发镀膜,热蒸发镀膜技术是历史最悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等。
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LMC-2000磁控溅射仪
- 品牌:北京裕隆
- 型号: LMC-2000
- 产地:海淀区
全自动控制,操作简捷 镀膜颗粒小,适用于场发射电镜等高倍样品观测,和电极制备 无高热损伤,适用于对温度敏感的样品 内置操作向导,无需培训即可熟练操作
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108进口离子溅射仪
- 品牌:天津天泽智能
- 型号: 108
- 产地:东丽区
108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。 描述 108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。 主要特性 l 通过GX低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。 l 操作容易快捷,控制的参数包括放气以及氩气换气控制。 l 可用MTM-10高分辨膜厚控制仪(选件)精确测定所镀膜的厚度。 l 数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和ZJ的镀膜效果。 可使用多种金属靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶为标配),靶材更换快速方便。
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意力博通溅射仪ETD-800
- 品牌:北京世友创业
- 型号: ETD-800
- 产地:
ETD-800型全自动离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。主机规格L307mm*W260mm*H260mm电源规格220V/50HZ110V60HZ可选靶(上部电极)金:直径:50mm,厚度:0.1mm真空样品室直径:160mm,高:120mm定时器最长时间:3600S机械泵2L/S
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意力博通溅射仪ETD-900
- 品牌:北京世友创业
- 型号: ETD-900
- 产地:
ETD-900型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。特点:1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得**镀膜效果;3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;4.根据电场中气体电离特
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意力博通溅射仪ETD-900C
- 品牌:北京世友创业
- 型号: ETD-900C
- 产地:
ETD-900C是一款具有溅射和蒸发两种功能的镀膜设备,由一台ETD900型溅射仪和一个蒸发电源箱及样品室蒸发上盖组成,由电缆将两个机箱中的控制部件连接起来,通过面板上的按键状态,经溅射机箱中的CPU判别操作项,以确定允许与否(具体操作见说明书)。设备使用简便,性能可靠,蒸发材料为碳绳,溅射材料为金、铂等。型号ETD-900c仪器尺寸400mm×300mm×400mm(L×W×H)靶(上部电极)50mm×0.1mm(D×H)真空样品室硼硅酸盐玻璃160mm×110mm(D×H)样品台50mm(D)工作电压
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意力博通溅射仪ETD-2000
- 品牌:北京世友创业
- 型号: ETD-2000
- 产地:
ETD-2000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。特点:1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得**镀膜效果;3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;4.陶瓷密封高压头比通
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意力博通溅射仪ETD-2000C
- 品牌:北京世友创业
- 型号: ETD-2000C
- 产地:
ETD-2000C溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。满足电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备和非导体材料实验电极制作。特点:在ETD-2000/3000离子溅射仪基础上,增加了热蒸发附件,可以蒸发碳丝,具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围,特别适用于扫描电镜实验室样品制备。型号ETD-2000c仪器尺寸400mm×300mm×400mm(L×W×H)靶(上部电极)50mm×0.1mm(D×H)真空样
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等离子薄膜溅射仪
- 品牌:合肥科晶
- 型号: GSL1100X-SPC-12
- 产地:
产品名称:等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12 产品简介:GSL-1100X-SPC-12型等离子薄膜溅射仪是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备,可进行真空蒸碳、真空镀膜和离子溅射,它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理。用本设备处理的试样既可用于样品的外貌观察又可以进行成分分析,尤其是成分的定量分析更为适宜。本仪器装有分子泵,分子泵系统特别适用于对真空要求高、真空环境好的用户选用。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定(含采购商ISO14000环
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全自动真空离子溅射仪喷金仪 直流溅射镀膜导电处理
- 品牌:上海众濒
- 型号: CIS-200
- 产地:奉贤区
全自动真空离子溅射仪喷金仪 直流溅射镀膜导电处理优势看得见:全自动微电脑控制,更智能; 专利技术,1 0秒更换靶材; 样品台内置高度调节功能,1秒即可调节; 内置1 0步操作向导,5分钟即可熟练使用设备;
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全自动真空离子溅射仪喷金仪 磁控溅射镀膜导电处理
- 品牌:上海众濒
- 型号: CIS400
- 产地:奉贤区
全自动真空离子溅射仪喷金仪 磁控溅射镀膜导电处理优势看得见:全自动微电脑控制,更智能; 专利技术,1 0秒更换靶材; 样品台内置高度调节功能,1秒即可调节; 内置1 0步操作向导,5分钟即可熟练使用设备;
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[公开招标]预算455.23万元 中国海洋大学采购小型超纯水仪
中国海洋大学公开招标小型超纯水仪、电流放大器,小型磁控离子溅射仪、旋转粘度计,光学接触角测试仪、高温烘箱,高精密分析天平、表面电位计,光固化3D打印机、超临界干燥仪,项目编号:HYHAQD2024-0164
- 离子溅射仪
- 仪器网导购专场为您提供离子溅射仪功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选离子溅射仪的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。